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非晶掺氧氮化硅薄膜中N-Si-O发光缺陷态的研究-南京大学学报自然.PDFVIP

非晶掺氧氮化硅薄膜中N-Si-O发光缺陷态的研究-南京大学学报自然.PDF

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    南京大学学报自然科学第卷第期年月非晶掺氧氮化硅薄膜中发光缺陷态的研究董恒平陈坤基宗波井娥林王昊窦如凤郭燕徐骏南京理工大学泰州科技学院泰州南京大学电子科学与工程学院南京南京大学固体微结构物理国家重点实验室南京摘要在室温下利用等离子体增强化学气相淀积方法制备出非晶掺氧氮化硅薄膜通过改变硅烷和氨气流量比可实现薄膜光致发光峰位在可见光能量范围内的波长调制光吸收谱中光吸收峰位与峰位重叠表明薄膜发光来源于光吸收边以下左右处的缺陷态通过对傅里叶变换红外光谱的键浓度分析和射线光电子能谱峰的分峰拟合发现薄膜强度的

    ( ) 南京大学学报 自然科学 第 卷 第 期 , 53 3 Vol.53 No.3 JOURNALOFNANJINGUNIVERSITY

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