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2017-08-12 发布于上海
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CMP工艺流程控制策略 Overview of CMP Process Control Strategies.pdf

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CMP工艺流程控制策略 Overview of CMP Process Control Strategies

．本期专题．圈釉盟黜融黼：查塑童墅： L■0，麴啦p螋堕婴唑堂塑唑堕№n唧蝴咝 CM P工艺流程控制策略 Lakshmanan Swedek，Mani Hsu Karuppiah，BogdanThothadri，Wei—yung Avi (ThomasBrezoczky，AndRavid，AppliedMaterial，TFGDivision，Sunnyvale，CA) 摘要：化学机械抛光工艺控制和测量技术随着其工艺重要性的日益提高越来越成熟．测量技术在所有类型的化学机械抛光工艺流程控制中扮演了一个重要的角色，并且可以根据使用的测量技术、其在工艺流程中所处的位置以及类型和产生的数据量以不同的方法实现。述评并提出了一些从现场、延伸的现场、综合的测量技术、以及其对工艺流程控制的影响和普遍应用的测量技术的例子。并且还提出了65nnl以及更小技术节点的测量技术以及工艺流程控制策略．在这些未来的技术中。晶片工艺控制以及每个晶圆片方法调整预计将更加苛刻。关键词：化学机械抛光；工艺控制；测量技术；流程控制技术中图分类号：TM305．2 文献标识码：A OverviewofCMPProcessControl Strategies Lakshmanan Swedek，Mani Hsu Karuppiah，BogdanThothadri，Wei—yung (Thomas Avi Material，TFG Brezoczky，AndRavid，Applied Division，Sunnyvale，CA) and it with Abstract：Processcontrolthe to have CMP metrologysupport gainedimportance process in of acrucialrole CMP increasingmaturity．Metrology enablinganytype processcontrol，and plays be indifferentbasedonthemeasurement locationinthe used，its mayimplementedways techniques flowandthe andamountofdata this wereviewand process type generated．Inpaper provideexamples its to ofthe used contribution in-s