LCD光刻胶涂布质量浅析 LCD Light-sensitive Lacquer Coating Quality Is Simple Analysis.pdfVIP

电子工业专用设备 电子专用设备研制 Equipment for Electronic Products Manufacturing LCD光刻胶涂布质量浅析 谭代木 南京华日液晶显示技术有限公司 ，江苏 南京 ( 210038) 摘 要 ： 通过对液晶显示器制造过程中的关键工序——— 光刻胶涂布工艺 、原理进行分析 ，对光刻 胶涂布设备参数进行调整等 ，为生产 LCD 提高合格率提供参考 。 关键词 ： 光刻胶 ；涂布 ；显示器 ；液晶 中图分类号 ： TN305.7 文献标识码 ： A 文章编号 ：1004-4507(2013)07-0044-04 LCD Light-sensitive Lacquer Coating Quality Is Simple Analysis TAN Daimu (NanjingHuariLCDtechnicalLtd,Nanjing210038，China) Abstract: Basedonthekeyworkingprocedurein theprocessofLCD manufacture-photoresist coating process,principle analysis,adjustphotoresistcoating equipmentparametersetc,provide referenceforproductionimprovethequalifiedrateofLCD. Keywords: Lithographyglue；Coating；Display；Liquidcrystal 平板显示，作为信息产业的重要构成部分。平 就要用到一种在薄膜和半导体工业中常用到光刻 板显示中液晶显示的生产技术不断提高，市场需 工艺-具有科学性质的技术。在液晶显示器生产 求量急速增长，为了提高LCD 产品质量，把好生 过程中，光刻的目的就是按照产品设计要求，在导 产过程中的工艺关、光刻工艺中光刻胶涂布质量 电玻璃上涂覆感光胶，并进行曝光，然后利用光刻 的好坏直接影响光刻质量从而影响LCD 质量。本 胶的保护作用对ITO 导电层进行选择性的化学腐 文重点阐述了光刻胶涂布对LCD 的影响。 蚀，从而在ITO 导电玻璃上得到与掩摸版完全对 应的图形。 1 光刻工艺及原理 光刻是液晶显示器制造过程中的关键工艺之 一，涂光刻胶是光刻工艺的关键，显示屏上的图形 1.1 工艺 越来越复杂，精密度越来越高，光刻技术就显得更 要在透明导电玻璃上制造出显示字符图案， 为重要。 收稿日期 ：2013-06-18 44 （总第221 期） Jul． 2013 电子工业专用设备 Equipment for Electronic Products Manufacturing 电子专用设备研制 目前在生产中最普遍采用的光刻方法是接触 根据原浓度的大小加入一定量的稀释剂充分搅 爆光法。光刻工艺流程： 拌，静置一段时间测量其黏度值，使达到其要求的 ITO 玻璃→ 前清洗→ IR、UV 烘干→ 涂光刻 黏度。 胶→ 前烘→ 曝光→ 显影→ 竖膜→ 刻蚀→ 剥离去 涂胶前的ITO 玻璃表面状况好坏，对光胶与 膜→水洗