钝化层沉积工艺对过孔尺寸减小的研究-液晶与显示.PDF

第 卷 第 期 液 晶 与 显 示 ， ２７ ４ Ｖｏｌ．２７Ｎｏ．４ 　 　 　 　 　 年 月 ， ２０１２ ８ ＣｈｉｎｅｓｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＬｉｕｉｄＣｒｓｔａｌｓａｎｄＤｉｓｌａｓ Ａｕ．２０１２ ｑ ｙ ｐ ｙ ｇ 文章编号： （ ） １００７２７８０２０１２０４０４９３０６ 钝化层沉积工艺对过孔尺寸减小的研究 李田生，谢振宇，张文余，阎长江，徐少颖，陈 旭，闵泰烨，苏顺康 　 （北京京东方光电科技有限公司，北京 ， ： ） １００１７６Ｅｍａｉｌｌｉｔｉａｎｓｈｅｎ ｂｏｅ．ｃｏｍ．ｃｎ 　 ｇ＠ 摘 要：为了适应 ＴＦＴＬＣＤ小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势，提高工艺设计富裕量以及增 　 加面板的实际利用率，研究了通过改变钝化层（ ）的沉积工艺来减小液晶面板阵列工艺中连接像素电极 ＰＶＸ 与漏极的过孔（ ）尺寸的方案，通过设计实验考察了影响过孔大小的钝化层的主要影响因素（黑点、倒角、 ＶＩＡ 顶层钝化层沉积厚度，顶层钝化层沉积压力），得出了在不改变原有刻蚀方式基础之上使过孔的尺寸降低 的优化方案，并对其进行了电学性能评价（ ：开态电流、 ：关态电流、 ：阈值电压、 ： ２０％ ３０％ 犐 犐 犞 Ｍｏｂｉｌｉｔ ～ ｏｎ ｏｆｆ ｔｈ ｙ 迁移率），从而获得了较佳的减小过孔尺寸的方案，提高了产品品质。 关 键 词：钝化层；刻蚀；过孔 　 　 中图分类号： 文献标识码： ： ／ ＴＮ１４１．９ Ａ 犇犗犐 １０．３７８８ＹＪＹＸ０４９３ 　　　 　　　 犐犿 狉狅狏犲犿犲狀狋犚犲狊犲犪狉犮犺狅犳犞犐犃犎狅犾犲犕犻狀犻犿犻狕犲犫 狆 狔 犘犪狊狊犻狏犪狋犻狅狀犔犪犲狉犇犲狅狊犻狋犆狅狀犱犻狋犻狅狀狊 狔 狆 ， ， ， ， ＬＩＴｉａｎｓｈｅｎ ＸＩＥＺｈｅｎｕ ＺＨＡＮＧＷｅｎｕ ＹＡＮＣｈａｎｉａｎ ｇ ｙ ｙ ｇｊ ｇ ， ， ，