变化电压下扩散限制电解沉淀过程对铜的分形维数的影响 Fractal dimension of Cu in diffusion-limited.pdf

第 卷 第 期 物 理 实 验 ! # 3456! /46# ! ! ! ! ! ! !! !!!! 年 月 !!!! !!! ! %’()*(+,%+-).+/010)2/ ! !$$ # (76!$$ ! ! ! 8 变化电压下扩散限制电解沉淀过程 对铜的分形维数的影响 ! ! ! 曹亦铮 !徐碧漪 !江洪建 !苏为宁 !周惠君 南京大学 基础学科强化部!南京 # 6 !$$#@ 南京大学 物理系!南京 $ !6 !$$#@ 摘 要!研究了铜的二维电沉淀物在限制条件下的分形维数 拍摄了铜沉淀物随时间变化的照片!使用盒维法分析 6 ! ! ! 了各种条件下的豪斯多夫分形维数!并建立了计算机评估模型!以证明电压对豪斯多夫维数的重要影响 根据照片显示 6 沉淀物的欧几里德几何形状也有着规则的变化6 关键词!分形豪斯多夫维数电解沉淀扩散限制硫酸铜 中图分类号! 文献标识码! 文章编号! # $ 2:?6? 1 $$?9:;:! !$$$#9$$@9$? ! ! ! ! ! ! ! 引 言 ! ! 分形结构是如此地贴近自然现象!当我们在 科学之路上探索自然奥秘时!总不可避免地碰到 一系列分形问题 其中包括凝固%结晶化%支晶的 6 生长%化学电镀%细菌体的生长%燃烧锋面和黏性 ’ ’ ! 指感 自 ! ! 等人 第 6 ABCDE AC55 .CGHIHJKGC F 一次对硫酸锌扩散限制下的电解沉淀# $ LM+L% 的分形性质进行研究以来!众多的实验相继产生6 日益显见!电化学沉淀是异常复杂的过程!且在绝 图 实验装置