光固化型奈米压印微影之石英母模制备及表面处理-NationalTaiwan.PDF

16 2 2007 6 13 農業機械學刊 第 卷 第 期 年 月 光固化型奈米壓印微影之石英母模 製備及表面處理 1 1 2 李冠霖 ，李英群 ，謝志誠 1. 國立台灣大學生物產業機電工程學研究所研究生 2. 國立台灣大學生物產業機電工程學系教授，本文通訊作者 摘 要 本研究採用光固化型奈米壓印微影技術，以石英作為母模材料、矽作為壓印 基材，先後在石英表面沉積與塗佈厚度100nm 之鉻薄膜與380nm 之正光阻ZEP-520A ， 而後利用電子束微影技術在光阻上定義圖形，經曝光、顯影後，分別以ZEP-520A 與鉻薄膜作為擋罩，利用高密度電漿反應性離子蝕刻系統對鉻、石英進行蝕刻， 完成母模之製備；然後利用脫模劑 tridecafluoro-1,1,2,2,tetrahydrooctyl trichlorosilane 對石英母模進行表面處理，以在石英母模表面形成脫膜層，降低石英母模之表面 能量；最後利用光固化型壓印機，將表面處理後之母模壓印到塗佈有高分子材料 mr-L 6000.3 XPe 之基材上，以轉印石英母模之圖形。 本研究成功地在石英上完成線寬為80nm～120nm 之圖形，並成功地將母模上 之圖形移轉到塗佈有mr-L 6000.3 XPe 之基材上。 關鍵詞 ：光固化型奈米壓印微影、石英、脫模層、電子束微影、反應性離子蝕刻 FABRICATION AND SURFACE TREATMENT OF QUARTZ TEMPLATE FOR PHOTO-CURING NANOIMPRINT LITHOGRAPHY 1 1 2 Guan-Lin Lee , Ying-Chun Lee , Jyh-Cherng Shieh 1. Graduate Student, Department of Bio-Industrial Mechatronics Engineering, National Taiwan University. 2. Professor, Department of Bio-Industrial Mechatronics Engineering, National Taiwan University, Corresponding Author. ABSTRACT In this research, quartz is selected as the template material because of its transparency and high hardness. First, a 100nm thick Cr as a conducting layer is deposited on quartz template by thermal evaporation. Then, a 380nm thick positive photo-resist ZEP-520A is spin coated on Cr layer. After E-beam lithography, the quartz template is fabricated by high density 14