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二维短沟道mosfet阈值电压分析模型 analysis of 2-d short-channel mosfet threshold voltages model
步粼黧皇嬲
二维短沟道MOSFET阈值电压分析模型
李海霞,毛凌锋
(苏州大学电子信患学院,江苏苏州215021)
摘要:随着器件尺寸的进一步减小,由量子效应导致的能带分裂对MOSFET中闽值电压特性
的影响变得越来越重要。提出了一个包含量子效应(QME)的短沟道金属氧化物场效应晶体管
(MOSF.ET)分析的闽值电压模型,该模型建立在求解包含量子校正的泊松方程的基础上。分析在
泊松方程中考虑量子效应后建立的分析的闲值电压模型可知:随着器件尺寸的减小,由量子效应
和短沟道效应引起的阈值电压的升高变得越来越严重。本模型的优点是没有引入额外的物理参
数。
关键词:深亚微米半导体器件;解析阈值电压模型;量子机制效应
中图分类号:TN386.1文献标识码:A 文章编号:1003.353X(2009)03.0254.04
of2-DShort-ChannelMOSFETThreshold Model
Analysis Voltages
LiHaixia,Mao
Lingfeng
(SchoolElectronicand
of InformationEngi,m,ring,$ooehow 215021,Ch/na)
University,Suz.hou
ofthebandcausedthe amoreandmore
Abstract:皿e
split by quantummechanism(QM)effectspkLys
effectonthethreshold inMOSFl巳T酗theCMOS scalesdown.An
significant voltageproperties technology
2Dmodel intoaccountthe effectsforthethreshold characteristicsofshort-
analytical taking QM voltages
channelMOStransistorswag onthebasisofthesolutionofthe correctionPoisson
propo嗽l developedquantum
model illustratestheincreasedthresholdcaused effects.andtheshort-
equation.-11_lisclearly voltage byQM
more
channeleffectsbecomeobviousafter effectswereconsidered.’nleattractivefeatureinthismodelis
QM
thatnoaddition isusedtotakeintoaccountthe effects.
parameter quantum
words:sub-micron tllreshold mqEN:hanismeffect
Key MOSFET;analyticalmodel;quantum
EEAC:2520D;2560B
1。5
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