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高质量inas单晶材料的制备及其性质 growth and properties of high quality inas single crystals

第 卷 第 期 半 导 体 学 报 Z7 8 VO1.Z7 NO.8 年 月 Z006 8 CHINESEJOURNAL OF SEMICONDUCTORS Au . Z006 g 高质量InAs单晶材料的制备及其性质 T 赵有文 孙文荣 段满龙 董志远 杨子祥 吕旭如 王应利 中国科学院半导体研究所 北京 100083 摘要!利用液封直拉法 生长了直径 和 晶向的 单晶 分析研究了 型杂质 和 LEC 50mm 100 111 InAS . n Sn S p 型杂质 的分凝特性 晶格硬化作用 掺杂效率等 利用 射线双晶衍射分析了晶体的完整性 对 晶片 Zn Mn . X . InAS 的抛光 化学腐蚀和清洗进行了分析 在此基础上实现了抛光晶片的开盒即用 EPI-READY . 关键词!砷化铟 掺杂 抛光 = PACC 6110C 8160 71Z0 中图分类号! 文献标识码! 文章编号! # TN304.Z A 0Z53-4177 Z006 08-1391-05 对晶片的抛光技术 表面损伤以及清洗技术进行了 l 引言 分析. 以 单 晶为衬底可 以生长 / 实验 IHAS IHASSb IH- 2 ASPSb IHNASSb 等异质结材料 制作波长 Z 14 m

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