材料明细-国家试验研究院.DOCVIP

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2017-08-14 发布于天津
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材料明细-国家试验研究院

國家奈米元件實驗室 6”CMP oxide專用研磨墊招標規範書說明：本規範適用於國家奈米元件實驗室進行研究與服務所需使用到的IPEC 372M CMP oxide研磨用之標準研磨墊Oxide CMP標準研磨墊需求數量：片。研磨墊包含有上墊、下墊和背膠等三層結構。上墊為含微孔洞之PU(polyurethane)材質，其Compressbility = 0.5~4 、Specific Gravity (g/cm^3)為0.75±0.1、厚度為50±5 mils，下墊為PU impregnated polyester felts材質、Thickness=50±5 mils 、Compressbility = 17???、硬度需達到Shore Hardness) A =? 67±5或?Shore Hardness) D =?44±5。研磨墊包含有K grove pattern，其pattern 圖案(width/depth/pitch＝ 7.5/15/60 mils) 以利研磨漿料均勻分佈。研磨墊尺寸至少為22.5英吋。研磨墊總厚度為100± mils、硬度需達到蕭式硬度 (Shore Hardness) D =?57±6。此研磨墊研磨氧化矽材質時，down force 在6 psi 針對PETEOS研磨率可達到3000±200 A 。規格審查文件案規格型錄。國家奈米元件實驗室 NATIONAL NANO DEVICE LABORATORIES 招標案號：069 頁數 PAGE: 3 OF 3 購案名稱：本文件為國科會國家毫微米元件實驗室專有之財產,非由書面許可,不准透露或使用本文件,亦不准複製或轉變成任何其他形式使用 THE INFORMATION CONTAINED HERE IN IS THE EXCLUSIVE PROPERTY OF NATIONAL NANO DEVICE LABORATORIES. AND SHALL NOT BE DISTRIBUTED THE REPRODUCED, OR DISCLOSED IN WHOLE OR IN PART WITHOUT PRIOR PERMISSION OF NATIONAL NANO DEVICE LABORATORIES. filename：CMP標準研磨墊採購規範-11.doc