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材料分析复习题 -----名词解释 一．名词解释： 光电效应 质厚衬度 X射线谱 特征X射线谱： 二次电子 系统消光 俄歇效应 衍射衬度 连续谱 背散射电子 结构因数激发电压 等同晶面 明场成像 暗场成像 景深 相干散射 非相干散射 短波限 特征谱 干涉面 衬度 焦长 晶带 复型 标准零层倒易面 相机常数 多重性因子 吸收电子 光电效应：以光子激发原子所产生的激发和辐射过程称为光电效应。 质厚衬度：由试样的厚度和密度造成的衬度。 X射线谱： x射线管发出的x射线束的波长和强度的关系曲线。 特征X射线谱：在连续谱的基础上叠加若干条具有一定波长的谱线,称为特征X射线谱。它和可见光的单色相似，亦称单色X射线。 二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的样品的核外电子。 系统消光：因原子在晶体中位置不同或原子种类不同而引起的某些方向上的衍射线消失的现象称之为系统消光。 俄歇效应如果原子在入射的x射线光子的作用下， K层电子被击出，L层电子向K层跃迁，其能量差不是以产生K系X射线光量子的形式释放，而是被邻近电子所吸收，使这个电子受激发而逸出原子成为自由电子-----俄歇电子(Auger electrons)。这种现象叫做俄歇效应。 衍射衬度:由于样品中不同晶体(或同种晶体不同位向)衍射条件不同而造成的衬度差别称为衍射衬度。 连续谱：具有连续波长的X射线，构成连续X射线谱，它和可见+ -光相似，亦称多色X射线。（或答：管压很低时，X射线谱的曲线是连续变化的，称连续谱。） 背散射电子：背散射电子是被固体试样表面的原子核反射回来的一部份入射电子，包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子。 结构因数F2： 反映了晶胞内原子种类、原子个数、原子位置 对（hkl）晶面衍射方向上衍射强度的影响。 焦长：物平面固定,在保证象清晰的条件下，像平面沿透镜主轴上下移动的距离。（或答：透镜像平面允许的轴向偏差） 等同晶面：晶面间距相同,晶面上原子排列规律相同的晶面. 明场成像：让透射束通过物镜光阑，而把衍射束挡住得到图象衬度的方法叫明场成像。 暗场成像： 用物镜光阑挡住透射束及其余衍射束，而只让一束强衍射束通过光阑参与成像的方法，称为暗场成像。 景深：透镜物平面允许的轴向偏差。即当像平面固定时,在保证像清晰的条件下，试样在物平面沿镜轴上下移动的最大距离。 相干散射 入射X射线光子与原子中束缚较紧的内层电子相碰撞，电子发生受迫振动，向四周辐射电磁波，其辐射出电磁波的波长和频率与入射波完全相同，新的散射波之间将可以发生相互干涉-----相干散射。 非相干散射当X射线光子与束缚力不大的原子外层电子相撞时，得到的散射波的波长和频率与入射波不同，且随散射角增大而移向长波，它们不能相互干涉。这种散射现象称为不相干散射。 短波限：在各种管压下的X射线连续谱都存在一个最短的波长值，称为短波限。 干涉面：为简化布拉格方程引入的实际存在或不存在的假想（虚拟）晶面 。 衬度：在荧光屏上或照相底片上，眼睛能观察到的光强度或感光度的差别。 焦长：物平面固定,在保证像清晰的条件下，像平面沿透镜主轴上下移动的距离。 晶带 在晶体中，平行于某一晶向的所有晶面统称为一个晶带，这个晶向为晶带轴。 复型：把由浸蚀产生的金相试样表面显微组织浮雕复制到一种很薄的膜上，然后把复制薄膜放到透射电镜中去观察分析，该薄膜称为复型。 标准零层倒易面 ：零层倒易面中，去掉结构消光条件倒易点的倒易面。 相机常数： L被称为相机常数，它是一个协调正、倒空间的比例常数。 多重性因子：等同晶面个数对衍射强度的影响因子叫多重性因子，用P表示。 吸收电子： 填空 材料的性能由其内部的 决定 X射线的本质是 ，与所有的基本粒子一样，X射线具有 二象性。波长较长的X射线， 较低，穿透性弱，称为 X射线，可用于非金属的分析。 X射线的频率ν、波长λ以及其光子的能量ε、动量p之间存在如下关系：ε= = P= 。 4. K系特征谱线包含Kα和Kβ两种类型谱线，其中波长λKα λKβ，能 量EKα EKβ,强度IKα IKβ ( 填大于，小于或等于) 5. 当X射线照射物质时，其强度随透入深度呈 衰减。 6. 一束X射线通过物质时，它的能量会分为三部分： 、 、 。 7.非相干散射会增加连续背底，给衍射图象带来不利的影响 8. 只有当入射x射线的波长λ