绘图品质媲美电子束绘图机micronic超越镭射绘图精度极限.pdfVIP

绘图品质媲美电子束绘图机 MiC即帆k 誓李敏 因而在contact 现墨鍪赫篡 Layer的绘图表现， 以往的镭射机台略逊于电子束绘 象的享受与便利之外，也在半导 图机。ulfsundstrom透露， 体制造厂商的头上高悬了一把达 摩克利斯之剑。电子产品轻薄小 层的绘图，是因为其具备一种称 巧的趋势以及价格竞争的压力推 orner 作四角清晰度增强(C 动半导体制程朝向纳米时代迈进， 目前90纳米尚未全面普及应用， 写入时会增强或降低四个角的亮 已有厂商试水65纳米、甚至更尖 度，提高了四个角的清晰度，因而 端的45纳米。芯片制造犹如拓印， 四个角的保真度接近于用电子束 故而线宽的尺寸又跟掩膜版的精 写入的掩模。 度息息相关，可以说图形精准的 电子束绘图机挟精度的优势 掩膜版是半导体制程微细化需要 已经占据了纳米级掩膜版市场的 攻克的第一道难题。作为专业镭 大半江山，相形之下，较晚进入纳 射图形描绘机的厂商，Micronic致 米级的镭射绘图机台能否获得厂 力于提供贴合半导体制程前进步 商的青睐呢?ulfsundstrom乐观 伐的绘图机台，帮助客户获得高 sigma7500是市场上最早能与电子地认为，对于芯片制造商来讲，用 精度的掩膜版。 束绘图机竞争的镭射绘图机，其 激光替代电子束来生产掩膜版的 记者从相关业者处了解到： 绘图品质可以媲美电子束绘图机。 最大优点在于加工周转时间和成 目前由于电子束(E-be锄)绘图机 sigma7500的精度高、分辨率好，本两方面；对于掩膜版制造商来 的精度高，为较多掩膜版制造商 可以取代现有的电子柬绘图设备， 讲，用激光替代电子束来生产掩 选用于45纳米～90纳米工艺节可用于45nm～90nm技术节点大模板的最大优点在于生产力和成 点，而镭射绘图机则因速度快、产 部分的层。现在Sigma7500的cD本。站在全球芯片制造商和掩模 量高而被主要应用于130纳米等 一致性已经达到与电子束绘图系 板制造商的角度看，Micronic看 成熟工艺。然而Micronic的镭射绘 统相同的水平。激光设备可以使 到，制造商对激光绘图系统表现 图机打破业界的惯性认知，其 用空气轴承，它的重叠控制较好t 出很大的兴趣。 omega6000系列可应用于130纳米而电子束绘图系统是在真空中运 当问及Micronic的竞争对手， 等成熟的半导体工艺节点， F1are 作，基本上做不到这点。 ulfSunds仃om的回答为New Sigma7000系列可以应