硬盘及电子行业钌系溅射靶材用钌粉-中国有色金属标准质量信息网.DOC

硬盘及电子行业钌系溅射靶材用钌粉 编制说明 （讨论稿） （2014年4月） “硬盘及电子行业溅射用粉[2013]102号 本标准主要起草及修订人员：谭志龙，，张俊敏，传军，，伟，闻明，陈松，运行的此基础上标准的基础上了该行业标准草稿。本标准与标准制备钌靶用钌粉比较，标准名称为硬盘及电子行业钌系靶材用钌粉，钌及钌其他靶材如RuCo靶材硬盘及电子行业进行溅射成膜，而且钌基其他靶材钌粉末的要求与制备钌靶相同，因此，标准名称更改为硬盘及电子行业钌系靶材用钌粉本标准的实质内容更贴切。溅射靶材在磁记录及电容等领域溅射GB/T 1.1-2009《标准化工作导则 第1部分 标准的结构和编写》 本小组通过文献、专利调查以及使用厂家咨询和研究，发现：（1）及易混入粉末中的Zr元素没有要求）粉末的粒径分布没有要求，粉末粒径的均匀性是影响最终靶材均匀性的重要因素）粉末的振密度没有要求，粉末的振实密度是反映粉末度以及团聚程度的重要，也是炉次生产能力的重要指标。溅射 从客户使用的效果和复验的结果看，本标准所定的各项技术指标是先进的和合理的。按本标准所定的各项技术指标生产的产品，质量稳定可靠，满足客户使用要求。 四、国内外同类标准水平的对比分析 1、钌的矿物主要为金属互化物、半金属互化物或硫化物与砷化物，以钌锇矿等存在，主要集中在南非、前苏联、美国和中国。钌粉主要应用于化合物、浆料、金属或功能合金材料，广泛使用于传统工业、高新技术、军工宇航等各个领域。 2、检索ISO、ASTM、EN、JIS、DIN、国家和行业标准等，只检索到ASTM中钌的标准和有色行业的钌粉标准，未发现制备钌系溅射靶材用钌粉Zr、Al、K、Co、Cr、C、O、N元素的分析，本标准与ASTM标准比较无相同等级牌号并删除了Pb元素95，将杂质元素t、Pd 、Rh、Ir、Si的含量由原来的05、0.005、0.003、0.008、0.01，修改为0.003、0.003、0.002、0.003、0.001； 3、本标准分为SMP-Ru 99.95、SMP-Ru 99.99、SMP-Ru 99.995三个牌号，ASTM标准只有SM-Ru 99.90、SM-Ru 99.80两个牌号，有色行业标准只有SM-Ru 99.95、SM-Ru 99.90两个牌号。 4、标准与ASTM企业钌靶用钌粉比较，增加了分布的要求同时也了粉末振实密度的要求。、标准中分析杂质元素是根据客户长期使用过程中出来的容易对溅射薄膜品质造成的需要在原料严格控制的杂质元素。ASTM B717-96 Standard Specification for Refined Ruthenium YS/T 682-2008 钌粉 GB/T 23275-2009 钌粉化学成分分析方法-铅、铁、镍、铝、铜、银、金、铂、铱、鈀、铑、硅量的测定 辉光电质谱法 S/T 895-2013 高纯铼化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 HB 5220.3-2008 高温合金化学分析方法 第3部分：高频感应燃烧-红外线吸收法测定碳含量 HB 5220.49-2008 高温合金化学分析方法 第49部分：脉冲加热-红外、热导法测定氧、氮含量 GB/T 6523-2003 金属粉末粒度的测量沉降光透法 /T 5162-2006 金属粉末 振实密度的测定