硼磷硅玻璃缺陷分析与研究 analysis and research results of bpsg on abnormal problem.pdfVIP

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2017-08-13 发布于上海
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硼磷硅玻璃缺陷分析与研究 analysis and research results of bpsg on abnormal problem

第8卷，第10期电子与封装总第66期 Voi．8．No．10 2008年10月 ELeCTRoNICSPACKAGING f谚；通二④(蔓。鹫《Z、影(_-xte迥f-，；7囊，，7@ 硼磷硅玻璃缺陷分析与研究赵洪波1,2黄其煜1 (1．上海交通大学微电子学院，上海200240；2．中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，上海201203) 摘要：在晶圆制造中广泛运用掺杂有硼和磷的二氧化硅即硼磷硅玻璃作为绝缘介质，一般用于金属布线前的绝缘层。掺杂硼磷的作用是降低回流温度，减少热预算。但在实际运用中，由于硼磷硅玻璃性质不够稳定，常常受到环境的影响，其中的三氧化二硼和五氧化二磷容易和空气中的水汽反应生成硼酸和磷酸继而形成缺陷，造成电路短路，最终导致产品低良率，给公司造成损失。文章就硼磷硅玻璃受环境影响的异常现象进行分析研究，找到缺陷形成的根本原因及预防方法。关键词：硼磷硅玻璃；缺陷；环境中图分类号：TN405 文献标识码：A andResearchResultsofBPSGonAbnormalProblem Analysis ZHAO Hong—b01∥．HUANGQi—yul (1．MicroelectronicscollegeofShanghaiJiaotong Manufac— university，Shanghai 201203，China) turingInternational(Shanghai)Corp．，Shanghai Abstract：Inwafer and Silicon which boron Glass)film manufacturingprocess，BPSG(BoronPhosphorus doped and isusedasdielectricfilm BPSGfilmisusedin metaldielectric phosphorus widely．Normally pre layer．，nle functionof boronand istoreducereflow anddecreasethermal in doped phosphorus temperature budget．But factits isunstableforenvironmentand inBPSGfilmreactwithwater and property effect．B203P205 vaporeasily form and a filmwill short low result，BPSGproducedefect，inducecircuit，causeproductyield H，B01 H1P04．As anddiminishthe athere．1willshare andresearchresultsonBPSGabnormalcase