气囊气缸式紫外纳米压印系统的设计 design of bellows cylinder type uv nanoimprint lithography system.pdfVIP

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2017-08-13 发布于上海
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气囊气缸式紫外纳米压印系统的设计 design of bellows cylinder type uv nanoimprint lithography system.pdf

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气囊气缸式紫外纳米压印系统的设计 design of bellows cylinder type uv nanoimprint lithography system

SEMICoNDUCTOR0P10ELECTRONICSV01．2SNo．5 (ct．2007 雨‘ii—_7———·_=R_=-—习 K材料、结构及工艺1 世=!∑—=—————=∑———=：=—=』—==二———』_ 气囊气缸式紫外纳米压印系统的设计董晓文1’2，司卫华1’2，顾文琪1 (1．中国科学院电工研究所，北京100080；2．中国科学院研究生院．北京100039 摘要：介绍了紫外纳米压印技术原理和自主研发的压印系统。设计了一种利用气囊气缸的新型找平装置，并描述了该装置的原理。研制了相应的光学系统，着重讨论了光学系统的设计和调整。最后，通过使用该系统成功制备了具有100nm特征尺寸的纳米结构。关键词：纳米压印；紫外；光学系统中图分类号：TN405文献标识码：A ofBe¨ows UV Design cylinderTypeNanoimprjntLithographySystem DONG Xiao_wenl一，SIWe卜hual一，GUWen-qit (1．I砸titⅡteofElect—cal of Engllleering，Chjn讳eAcademysci蚰c瞄，BeUilIg1帅080，CHH； 2．G憎血atesch∞Iof of 100039，CHN) Chjne辨A翰demyscieno器，BeUing Abstract：The ofUVnano principle imp“ntlithography(UV—NIL)andsystemdesigned ourselvesareintroduced．Anewdeviceofbellows for e】jsmwas by cylinderpara】l designed，and the isdescrrbedindeta．I．Withthe ofthe basedonit，the principle design opticalsystem opticaI svstern，sconstructionandadiustmentareanalvzed．Atlast，thenanorstructureswith100nm featuresare withthis gained system． word8；nano Key imprint；UV}opticalsystem 1 引言微纳米结构的制备成本。但是，为达到必要的图形分辨率、精度、均匀性，仍然需要关注紫外光源对聚 nano 紫外纳米压印技术(uV imprint 合物固化效果的影响，如附着力o]、热稳定性口]、机 lithography，UV—NIL)[13是一种在室温、低压环境械性能“3等。此外，压印过程中压印力通常很大，如下利用紫外光固化高分子聚合物的纳米压印技术。果一旦压印力分布不均匀，会直接影响成品的尺寸图1示出紫外纳米压印技术工艺过