化学气相淀积CVD.PDF

化学气相淀积与薄膜工艺 Chemical Vapor Deposition Thin Film Technology 孟广耀 Tel:3603234 Fax:3607627 mgym@ 中国科学技术大学材料科学与工程系 固体化学与无机膜研究所 http://3/ PDF created with FinePrint pdfFactory Pro trial version Ch.1 论；化学气相淀积（CVD） － 一个重要的科学技术领域 1 1 化学气相淀积（CVD）: 概念、定义及其基本特点 1 2 学科与技术范围 1 3 CVD与新材料 1 4 CVD 与高新技术 1 5 本课程的内容 1 6 主要参考 1 7 教学方式与考核 PDF created with FinePrint pdfFactory Pro trial version 1 1 化学气相淀积（CVD）: 概念、定义及其基本特点 定义：CVD是通过气态物质在气相或气/ 固界面上发生反 应生成固态材料的过程 突出的特点－ ★原子、分子水平上化学合成材料－ 高度适应性和创新性 ★ 高纯度材料－ 基于CVD源可以通过气相过程得到高纯度 ★组成和结构可控性－ 制备工艺重现性 ★广泛的适应性与多用性 ★材料制备与器件制作的一致性 ★设备较简单、操作简易、易于实现文集自动控制… PDF created with FinePrint pdfFactory Pro trial version SiHCl3+H2=Si+3HCl 热交换器 （预冷却） 载体 废气待回 炉体 尾气回 器 侧H2 主H 2 挥发器 喷口 气液分离器 高纯H2 精馏过的 SiHCl (SiCl ) 3 4 图1－1 氯硅烷氢还原法生产 多晶硅装置简图[172] PDF created with FinePrint pdfFactory Pro trial version 前驱物/源 挥发 薄膜生长 纳米粉制备 前驱物/源 挥发 薄膜生长 纳米粉制备 相