固态输送ZrCl4低压化学气相沉积制备ZrC涂层的-中国有色金属学报.PDF

第 22卷第 1期 中国有色金属学报  2012年 1月  Vol.22 No.1  The Chinese Journal of Nonferrous Metals  Jan. 2012  文章编号：1004­0609(2012)1­0171­08  固态输送 ZrCl 低压化学气相沉积制备 ZrC 涂层的特征 4  刘 岗，李国栋，熊 翔，王雅雷，陈招科，孙 威  (中南大学 粉末冶金国家重点实验室，长沙410083)  摘 要：采用 ZrCl ­CH ­H ­Ar 反应体系、固态输送 ZrCl 粉末低压化学气相沉积(CVD)制备 ZrC涂层。研究温度 4 4 2