椭圆偏振光谱-1.pdfVIP

（SE Spectroscopic Ellipsometry ） 一.定义 椭圆偏振光谱测量是研究薄膜或块体材料 光学性能的重要手段，具有测量精度高、对 样品无破坏性、可原位测量以及对被测对象 及环境要求低等优点，可同时测量薄膜的厚 度、折射率和消光系数。 二.原理 椭偏技术是一种测定入射光被样品 反射(或透射)后偏振状态变化的光 学方法。它通过测量被测对象(样 品)反射出光线的偏振状态的变化 情况来研究被测物质的性质。 光波的偏振状态由两个参数描述：振幅和相位。 在椭偏仪法中，采用ψ和△这两个参数描述光 波发射时的偏振态的变化，它们的取值范围为： 0≤ψ≤π/2，0≤△2π。只要测到样品的ψ和△， 根据待测薄膜样品的数学模型，通过反演可求 得待测样品的光学参数，如薄膜厚度等。 (ψ,△)和(Rr，Rs)的关系定义为总反射系数的比 值，如式ψ(1)所示： ρ=R /R =tanψ*ei△ (1) p s 式中，tanψ表示反射前后光波P，S两分量的振 幅衰减比，△=δp—δs表示光波P，S两分量因 反射引起的相应变化之差。 三.实验 结合XRD和原子力显微镜等方法，利用椭圆 偏振光谱仪测试了单层Hf0 薄膜(K9基片)的 2 椭偏参数，利用离子束辅助电子束蒸发制备 Hf0 薄膜，用宽光谱椭偏仪对薄膜样品进行 2 测试，选用Cauchy(Ɛ ，Ɛ)色散模型拟合薄膜 r i 光学参数，得到了它们随波长的变化规律。 （1）XRD分析： 样品经X射线衍射仪检测后，对照HfO 的标 2 准XRD数据知，HfO 薄膜(K9玻璃基片)为单 2 斜相结构，结果如图1所示。 图1. （2 ）AFM分析： HfO 薄膜的表面形貌如图2所示。 2 图2. 由图可见，HfO 薄膜由许多微小的颗粒组成， 2 结构同样比较疏松，反映了电子束蒸发薄膜柱 状结构的本质特点，颗粒薄膜排列紧密，且大 小均匀。 （3 ）SE分析 • 为建立精确的椭偏模型结构，首先需要精确 测量基片的光学性能。样品采用K9玻璃基 片，为透明样品，所以测量时采用微光斑和 光学补偿器选项。椭偏仪提供两种方法对块 体样品的光学常数(n，k)进行模拟，一种是 块体分析，另一种是数值模拟，建立结构， 选择对应模型，利用winEli—II软件计算得到 结果。 • 块体模拟是针对理想基片，不考虑表面氧化物、粗 糙度和入射角偏差，从椭偏的直接测量值(振幅ψ和 相位△)和人射角φ 得到的，如式(2)所示： 1 2 2 2 1/2 （n+jk ）/n =sinφ {1+[(1-ρ) /(1+ρ) *tan φ ]} (2) 1 0 0 0 其中，n+jk 为基片的光学参数，n 为媒质的光学常 1 0 数(通