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第九章 II-VI族化合物半导体课件
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第九章 Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体
Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体,指元素周期表中Ⅱ族元素(Zn、Cd、Hg)和Ⅵ族元素(S、Se、Te、O)组成的化合物半导体。
与Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料比较Ⅱ-Ⅵ族化合物有以下一些特点:
(1)Ⅱ族元素和Ⅵ族元素在周期表中的位置相距比Ⅲ族和Ⅴ族的大,故Ⅱ-Ⅵ族的负电性差值大,其离子键成分比Ⅲ-Ⅴ族化合物大。
(2)禁带宽度变化范围大,具有直接跃迁的能带结构等优点。因此在固体发光、激光、红外、压电效应等器件方面都有着广泛的应用。
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(3)Ⅱ-Ⅵ族化合物熔点较高,在熔点下具有一定的气压,而且组成化合物的单质蒸汽压也较高。
制备Ⅱ-Ⅵ族化合物的完整单晶体比较困难;除CdTe可以生成两种导电类型的晶体外,其它均为单一的导电类型,而且多数为N型,很难用掺杂方法获得P型材料。这是由于Ⅱ-Ⅵ族化合物晶体内点缺陷密度大,易发生补偿效应。
这类材料除少数外,很难制成P-N结。这限制了Ⅱ-Ⅵ族化合物材料在生产方面和应用方面不如Ⅲ-Ⅴ族化合物材料普遍。
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Ⅱ-Ⅵ族化合物的能带结构都是直接跃迁型,且在Г点(k=0)的能带间隙(禁带宽度)比周期表中同一系列中的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体和元素半导体的Eg大。
如: ZnSe的Eg =2.7eV、GaAs的Eg=1.43eV、Ge的Eg=0.67eV。
Ⅱ-Ⅵ族化合物随着原子序数的增加,Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体的禁带宽度逐渐变小。
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(e)ZnSe能带; (J)CdTe能带:
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9-1 II—VI族化合物单晶材料的制备
1.II—VI族化合物单晶制备
II—VI族化合物单晶生长方法有很多种。其个最主要的有:高压熔融法、升华法、移动加热法等几种。
(1)高压熔融法(垂直布里奇曼法)
II-VI族化合物在熔点其蒸气压和解离度较大,且在远低于它们的熔点时,就分解为挥发性组元,因此晶体只能在高压力下从熔体生长。
例如:CdS在100大气压1470℃才熔化,ZnS亦需在几十大气压1830℃才熔化,CdTe需要的压力较低,在大气压下1090℃下即可熔化。
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垂直布里奇曼炉
将纯Cd和纯Te按一定计量比装入石英瓶,抽真空(10—8mmHg)后封闭,放入坩埚内,热区温度保持在熔点,待熔融后,以1—5mm /h的速度下降坩埚并转动,即可得到CdTe单晶。
还可生长ZnSe CdSe和 CdS等单晶。
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(2)升华法
升华法是利用II-VI族化合物固体在某一温度、压力下可以发生升华的现象,使升华的蒸汽冷凝生成晶体。
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(3)移动加热法
移动加热法分为移动溶液法和移动升华法。移动溶液法是生长高质量单晶的最简单、最可靠地方法之一。
移动升华法与移动溶液法相似,只是生长反应管中为真空。
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2. II—VI族化合物的外延生长
III-V族化合物外延生长方法,几乎都可用来生长II—VI族化合物薄膜。
LPE法生长II—VI族化合物薄膜是制作发光管工艺中较成熟的方法。
生长设备一般采用倾斜或水平滑动舟
等。
溶剂:Te用的最多,此外还有Bi
、Zn、Se、Sn、Zn-Ga、
Zn-Ga-In等元素或合金。
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