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工艺调试过程中各个参数对膜厚和折射率的影响课件
工艺调试过程中各个参数对膜厚和折射率的影响
一、时间(s):
选用炉管5-2,初始时间610s,测试结果:
更改时间-40s,为570s,测试结果为:
炉尾
炉尾前
炉中
炉口后
炉口
中间
膜厚
86.1000
90.3000
86.3000
87.3000
86.1000
85.4000
折射率
2.0400
2.0600
2.0550
2.0547
2.0561
2.0544
边上
膜厚
85.2000
86.6000
89.0000
88.6000
89.7000
86.5000
折射率
2.0475
2.0550
2.0699
2.0747
2.0877
2.0713
炉尾
炉尾前
炉中
炉口后
炉口
中间
膜厚
83.0000
86.2000
84.4000
82.9000
81.6000
81.2000
折射率
2.0440
2.0480
2.0487
2.0506
2.0550
2.0530
边上
膜厚
79.9000
86.7000
85.1000
87.0000
86.1000
84.4000
折射率
2.0511
2.0607
2.0587
2.7500
2.0675
2.0607
对比后的结果为:
炉尾
炉尾前
炉中
炉口后
炉口
平均值
中间
膜厚
3.1000
4.1000
1.9000
4.4000
4.5000
4.2000
3.8700
折射率
-0.0040
0.0120
0.0063
0.0041
0.0011
0.0014
0.0035
边上
膜厚
5.3000
-0.1000
3.9000
1.6000
3.6000
2.1000
2.7300
折射率
-0.0036
-0.0107
0.0112
-0.0003
0.0202
0.0106
0.0046
从测试的数据结果来计算,膜厚平均值为(3.87+2.73)/2=3.3nm/40s,折
射率平均值为(0.0035+0.0046)/2=0.004/40s
即每变化12s,膜厚变化1nm,每变化10s,折射率变化0.001
膜 厚:1nm/12s ,符合经验值13s/nm
折射率:0.001/10s
二、功率(W)
选用炉管5-2,初始功率5200W,测试结果为:
炉尾
炉尾前
炉中
炉口后
炉口
中间
膜厚
83.0000
86.2000
84.4000
82.9000
81.6000
81.2000
折射率
2.0440
2.0480
2.0487
2.0506
2.0550
2.0530
边上
膜厚
79.9000
86.7000
85.1000
87.0000
86.1000
84.4000
折射率
2.0511
2.0607
2.0587
2.7500
2.0675
2.0607
更改功率+300W,为5500W,测试结果为:
炉尾
炉尾前
炉中
炉口后
炉口
中间
膜厚
87.5000
90.5000
89.7000
86.7000
86.9000
85.4000
折射率
2.0450
2.0670
2.0650
2.0570
2.0611
2.0560
边上
膜厚
86.5000
89.3000
89.9000
89.5000
90.5000
88.6000
折射率
2.0540
2.0780
2.0819
2.0840
2.1002
2.0837
对比后的结果为:
炉尾
炉尾前
炉中
炉口后
炉口
平均值
中间
膜厚
4.5000
4.3000
5.3000
3.8000
5.3000
4.3000
4.5900
折射率
0.0010
0.0190
0.0163
0.0064
0.0061
0.0030
0.0086
边上
膜厚
6.6000
2.6000
4.8000
2.5000
4.4000
4.2000
4.1800
折射率
0.0029
0.0173
0.0232
0.0090
0.0327
0.0230
0.0180
从测试的数据结果来计算,膜厚平均值为(4.59+4.18)/2=4.38nm/300W,
折射率平均值为(0.0086+0.0180)/2=0.0133/300W
即每变化100W,膜厚变化1.5nm,每变化25W,折射率变化0.001,(但是
由于假片用的时间较长,对镀膜会存在一定的影响,大约去掉1.38nm)
膜 厚:1.5nm/100W(经验值:1nm/100W)
折射率:0.
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