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Stepper简介课件
Stepper 機台結構原理簡介 及注意事項;Index 1;Index2;;;;;;;;8.Focus Leveling 系統- I14型; I11型 Inline multi-point focus sensors
I14型 7?7 , 2-dimensional multi-point focus sensors,
Max. 9 points can be selected from total 49 points
(Tracking sensors are auxiliary combined.)
*Tracking sensors: Check whether the height of the wafer surface
is within the measurement range of focus sensors.;;;;;;;;;;;名詞解釋:
1.AA: Align Accuracy, 對準準確度.
2.ADI: After Develop Inspection, 顯影後目檢.
3.CD: Critical Dimension, 重要的線寬.
4.Coater: 光阻機, 將光阻以旋轉的方式均勻的塗佈在晶片上.
5.Defocus: 曝光時焦距異常, 將導致晶片上的光阻圖形變形.
6.Developer: 顯影機, 利用顯影液將曝光後的光阻去除.
7.DUV: 波長 246nm 的光源
8.Exposure: 曝光, 使光阻感光的過程.
9.I-line: 波長 365nm 的光源
10.Mask(Reticle): 光罩, 內有欲移轉至晶片的圖形.
11.PR: Photo Resist, 光阻, 為一種感光材料經曝光後可溶解於顯影液中而去除.
12.PHOTO: 黃光,因光阻對黃光不感光.
13.Rework: 將不良產品光阻去除, 再重新上光阻曝光的過程.
14.SEM: Scanning Electron Microscope, 掃描式電子顯微鏡.
15.Stepper: 步進曝光機, 在晶片上依前層圖形位置逐步的曝光.
16.Track: 光阻機和顯影機的通稱.;
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