薄膜制备技术第二部分真空技术基础-田民波课件.ppt

旋片式机械真空泵 经过n个循环后 当泵室体积大，被抽容积小时，即ΔV/V 越大，V/(V+ΔV)n→0越快，Pn →0越快。 但n→∞时Pn →0。实际上不可能，有一极限值，因为泵结构上存在“有害空间→ 出气口与转子密封点之间的极小空隙空间。1处的气体不能被排走，会穿过2点，回到吸气侧。 旋片式机械真空泵 每秒转子转m次，则t秒转 n=mt，这时待抽空间的压强为Pt： 机械泵的工作特性曲线 上式只有在Pt远远大于极限真空时才适用，即该关系适用于抽气的早期。 旋片式机械真空泵 双级泵和机械泵油 为了减小有害空间的影响，通常采用双级泵；该泵由两个转子串联，以一个转子空间的出气口为另一个转子空间的进气口。可使极限真空从单级泵的1Pa提高到10-2Pa ； 机械泵油要求：饱和蒸气压低，有一定的润滑性和粘度，较高的稳定性。 分子泵 当气体分子碰撞到高速移动的固体表面时，在表面停留很短时间，并在离开时获得与固体表面速率相近的相对切向速率。 靠高速转动的转子碰撞气体分子并把它驱向排气口由前级泵抽走，使容器获得超高真空。 特点：启动速度快、噪声小、运行平稳、抽速大、不需任何工作液体。 * 第二章：真空技术基础 真空的基本知识 真空的获得 真空的测量 真空度的单位 为了使被研究的样品不被周围气氛所污染，获取“原子清洁”的表面，薄膜制备和衬底表面形成过程往往是在真空或超高真空中进行的。目前，人们所广泛使用的薄膜制备系统都具有真空系统。 真空： 低于一个大气压的气体空间。 不同领域对什么是真空理解不一样： 显像管：10-2 Pa 表面研究：10-8 Pa 真空度的单位 自然真空：宇宙空间所存在的真空； 人为真空：用真空泵抽调容器中的气体所获得的真空。 单位：帕斯卡（Pascal）：Pa 其它常用单位： Torr mmHg mbar atm 1 atm=760 Torr, 1 Torr=133.3 Pa, 1 mbar=100 Pa 1 mmHg≈1 Torr 气压的产生和气体状态方程 气压的产生： 气体状态方程： 气体分子密度 n 标准状态： P = 105 Pa，T=273.15 K n = 2.6?1025个/m3 超高真空: P = 1.3 ? 10-11 Pa，T=293 K n = 3.2?109个/m3 气压的产生和气体状态方程 真空区域的划分 (1)粗真空：1×105～ 1×102 Pa。 以热运动为主，分子间碰撞频繁，平均自以热运动为主，分子间碰撞频繁，平均自由程短。 (2)低真空： 1×102～ 1×10－1 Pa。 一定的自由程，可避免氧化，随容器中压强降低，液体的沸点也降低，出现真空脱水。 真空区域的划分 (3)高真空： 1×10－1 ～ 1×10－6 Pa。 i）气体的平均自由程已大于一般真空容器的线度，绝大多数分子与器壁碰撞，很少相互碰撞，按直线飞行。 ii）容器空间的任何物体与残余气体分子的化学作用也十分 微弱。 Iii)气体的热传导和内摩擦与压强无关。 真空区域的划分 (4)超高真空： 1×10－6 Pa 得到纯净的气体空间； 可获得纯净的固体表面，气体分子在固体表面上是以吸附停留为主，广泛用于半导体工业中的材料生长和器件制造。 真空区域的划分 薄膜制备和分析技术对于真空度要求 真空蒸发沉积需要高真空和超高真空范围（10-3 Pa）; 溅射沉积需要中、高真空（10-2 ~ 10-5 Pa）; 低压化学气相沉积需要中、低真空（10~ 100 Pa）; 电子显微技术维持的分析环境需要高真空; 材料表面分析需要超高真空。 稀薄气体的基本性质 理想气体压强是可加的，遵守道尔顿分压定律，对于混合气体，总压强等于分压强之和： P=P1+P2+···+Pi+··· 真空技术中所遇到的是稀薄气体，在性质上与理想气体差异很小，可直接应用应用理想气体的状态方程 →理想气体定律： (i) 玻义尔定律 (ii) 盖?吕萨克定律 (iii)查理定律 稀薄气体的基本性质 玻义尔定律 一定质量的气体，在恒定温度下，气体的压强与体积的乘积为常数，PV=C。 盖?吕萨克定律 一定质量的气体，在压强一定时，气体的体积与绝对温度成正比，V=CT。 查理定律 一定质量的气体，如果保持体积不变，则气体的压强与绝对温度成正比，P=CT。 稀薄气体的基本性质 气体分子的速度分布 在一定容器中的气体分子处于