磁控溅射方法制备薄膜的应用研究.pdfVIP

， 、 学术 磁控溅射方法制备薄膜的应用研究 齐齐哈尔职业学院机电系 一李丽 ＼苟世界 摘要 ： 本文从磁控溅射的定义、优势以及应用三方面论述了磁控溅射方法制备薄膜 ，主要阐明 了磁控溅射方； 制备薄膜的优势所在。 1．磁控溅射概述 同时可以在大面积基片上获得厚度均匀 薄膜可定义为：按照 ’定的需要，利用特 的薄膜 。 殊的制备技术，在基体表面形成厚度为亚微米 3．磁控溅射方法在金属防腐上的应用 至微米级的膜层。二维伸 展的薄膜 由于具有特 磁控溅射技术在高速 率沉积金属、半 导体 殊 的成分、结构和尺寸效应 因而使其获得三维 和介 电薄膜 方面取得 l『巨大进步 ，该技术可 以 材料所没有的性质 ，同时又很 常约材料，所 以 在较低工作压强下得到较高的沉积速率 ，也可 非常重要。现在薄膜的应用已经扩大到各个领 以在较低的基片温度下获得高质量薄膜。因此 ， 域，薄膜产业迅速崛起，如塑料金属化制品、 近年来该技术被广泛应用于各种金属和非金属 建筑玻璃镀膜制 品、光学薄膜、集成 电路薄 的表面防腐上。 膜、液晶显示器、刀具硬化膜、)匕盘等等，都 H．schafer等人 [1]利用反应磁控溅射 的 有 _r很大的生产规模。具体 的薄膜制备方法很 方法在航空用Al合金表面溅射涂层 ，以提高Al 多，常用 的有物 理气相沉 积 (PhysicalVapor 合金的抗腐蚀 性。他们研 究发现 ：极化曲线 显 Deposition CVD)、化 学气 相 沉 积 (Chemical 示A1N镀层有很高的极化钝化 电位。盐雾实验 VaporDepositionCVD)、电镀等等。物理气相 也证实了涂层的保护效果。而且随着N含量 的 沉积是在真 条件 下，利用各种物理方法，将 变化 ，极化 电位也随之改变 。不同的工艺参数 镀料气化成原予、分子，或 离 化为离子，直 阴极靶 2基片 3～阳极 对盐雾实验的影响也很大 。 接沉积到基体表面的方法，主要包括真空镀膜、 4～真空室 5 接真空泵 6进气 口 利用射频反应磁控溅射法制得 ZrNo薄膜用 溅射镀膜、离子镀膜等；化学气相沉积是把构 图1辉光放 电直流溅射系统 于防腐 [2]，通过改变负偏压和反应溅射气体的 成 薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供 它有许多独特之处 ：如可实现高速大面积沉积； 比例 (O／N)获得具有 不同性 能的薄膜 ，结果发 给基体，借助气相沉积作用或在基体表面 上的 几乎所有金属、化合物、介质均可做成靶 ，在 现不 同的工 艺参数对薄膜的质量影 响很大 ，从 化学反应生成要求的薄膜，主要包括常压化学 不 同材料衬底 上得到相应材料薄膜；可 以大规 而影响其防腐效果。 气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和 PVD 模连续性生产等。因此 ，溅射镀膜技术倍受关