氮化矽薄膜色差均匀性对太阳能电池片效能之研究学生-国立交通大学.PDF

氮化矽薄膜色差均勻性對太陽能電池片效能之研究 學生：邱玉銘 指導教授：柯富祥 博士 國立交通大學 工學院半導體材料與製程設備學程碩士班 摘 要 本論文乃研究多晶矽太陽能電池( poly-crystalline silicon solar cells )抗 反射層薄膜( Antireflection thin films)製程之技術，而抗反射SiNx 薄膜已經成 為單晶或多晶矽薄膜太陽能電池製程關鍵步驟之ㄧ。目前業界皆以電漿輔 助化學氣相沉積法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, 簡稱 PECVD)法來進行沉積 SiNx 薄膜。然而，從終端的應用產品上可發現到， 實際太陽能電池片上呈現出差異性的抗反射層薄膜沉積顏色，造成太陽能 電池模組外觀上突兀與不協調。在經由研究證實發現，此顏色差異源自於 抗反射層薄膜厚度不同所表現。此外，抗反射薄膜厚度不均勻，會在介面 處影響金屬燒結階段穿透程度與矽合金形成的可能性變化，而導致太陽能 電池片上，並聯電阻與串聯電阻的電性變化，間接影響電池片光電轉換效 益表現。 研究中針對 PECVD 進行沉積 SiNx 薄膜過程中調整反應壓力、氣體流 量變化、反應射頻、氣體比例變化、製程溫度對其抗反射薄膜生成的影響。 根據實驗結果和參考文獻報導可歸納出(1)氣體流量與反應壓力變異會明 顯影響薄膜沉積生長率； (2) 反應射頻變異同樣明顯對增加薄膜沉積速率， i 但卻導致結構鬆散；(3)氣體流量比例 SiNx 薄膜反射率；(4) 反應温度方面 則影響表面原子活性與遷移率，提升薄膜緻密性。這些製程參數條件對於 進行沉積薄膜均勻性並沒有絕對的關聯性。 因此針對薄膜沉積顏色異常特徵性，特別進行載具設計實驗觀察其對 其沉積薄膜特性與光學特性的影響。最終實驗結果發現變更載具與晶片接 觸設計，可確實顯著改善晶片太陽能電池片上抗反射層薄膜厚度均勻性， 意即能減少外觀上晶片顏色色差，同時可兼顧反射率與光電轉換效率。 ii Research on the color uniformity for the solar cells Student ：Yu-Ming Chiu Advisor ：Dr. Fu-Hsiang Ko Degree Program of Semiconductor Material and Process Equipment Nation Chiao Tung University ABSTRACT The research aims to study the fabrication of antireflection thin films for poly-crystalline silicon solar cells. The antireflection SiNx thin films have already treated as the turnkey process for silicon solar cells. Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique on SiNx films is widely used in PV industry. Actually, the solar cells exhibit different colors in the thin films, which have led to unexpected and uncoordinated exterior. The causes of these variances