ICP5100刻蚀机设备手册.PDFVIP

ICP5100刻蚀机设备手册 作者：李希有 版本号：1.0 1、设备名称：ICP5100 刻蚀机 型号： 序号： 图1、设备所在位置（ 标示处） 2、设备功能 本设备主要用于刻蚀Si、Nb、SiO2、Si3N4、Poly-Si、GaTiO3、ZrTiO3、 GaN等材料。本设备可以作为RIE使用，也可以用来去胶。 洁净等级： 非MOS级 硅片尺寸：5英寸以下硅片 3、设备工作原理 本设备有三种工作模式： 电感耦合等离子体（ICP）刻蚀: 上电极（W1）、下电极（W2）同时加载 反应离子刻蚀（RIE）:只加载下电极（W2）。不加载上电极（W1） 等离子刻蚀（PE）: 只加载上电极（W1）。不加载下电极（W2） 例如：等离子体腐蚀，是依靠高频辉光放电形成的化学活性游离基与被 腐蚀材料发生化学反应，实现选择性腐蚀的方法。对不同被腐蚀物质需采 用不同气体腐蚀剂形成活性游离基。. 图2 工艺原理 4、设备说明 （该设备的具体情况，结合总体与细节照片，气路、水路、电路等） 图3、设备照片 5、安全说明 设备有毒有害气体有：CF 、CHF 、SF 、Cl 、BCl 。 4 3 6 2 3 如果闻到异味及时向撤离并通知设备工程师或工艺工程师。 6、现有工艺模块 （根据情况，描述所有经过验证的工艺模块） Si etch 7、操作流程 确认设备处于正常关机状态。工艺气体、压缩空气（CDA）、N 、O 2 2 等气体阀门处于截止状态；动力系统已断开。 开启设备动力系统 (a)打开排风 （见图4） 排风开关 图4、排风开关 (b) 合电源箱电源:主机动力电源、射频动力电源； （见图5） 主机动力 电源 图5、电源箱电源 (c) 打开冷却循环水水。先打开回水再打开入水。 （见图6） 循环水 入口 循环水 出口 图6冷却循环水 (d) 打开主机电源、主机射频电源. （见图7） 真空计 操作界面 射频SP- Ⅰ匹配 分子泵 射频SP- Ⅰ 电源 (1500W)