第3-1章 薄膜的物理气相沉积(ⅰ)-蒸发法.pptVIP

影响薄膜纯度的因素 （1）蒸发源物质的纯度； （2）加热装置、坩埚等可能造成的污染； （3）真空系统中残留的气体，前面讲过杂质气体分子与蒸发物质的原子分别射向衬底，并可能同时沉积在衬底上。 改善薄膜纯度的方法： 1）依靠使用高纯物质作为蒸发源以及改善蒸发装置的设计； 2）改善设备的真空条件 3）提高物质蒸发及沉积速率。 桂林电子科技大学 材料科学与工程学院 真空蒸发法所采用的设备根据其使用目的可能有很大的差别，从最简单的电阻加热蒸镀装置到极为复杂的分子柬外延设备，都属于真空蒸发沉积装置的范畴。在蒸发沉积装置中，最重要的组成部分就是物质的蒸发源，根据其加热原理可以将其分为以下各种类型： 1、电阻式蒸发装置 2、电子束蒸发装置 3、电弧蒸发装置 4、激光蒸发装置 5、空心阴极蒸发装置 6、分子束外延 3. 1.10 真空蒸发装置 桂林电子科技大学 材料科学与工程学院 1、电阻式蒸发装置 （1）电阻加热蒸发法：采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状的加热装置（也称“蒸发源”，注意与“蒸发材料”区别），其上装入待蒸发材料，通以电流后，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入Al2O3、BeO等坩埚中进行间接加热蒸发， （2）电阻式蒸发装置优缺点 1）优点：由于电阻加热蒸发源结构简单、价廉易作，所以是一种应用很普通的蒸发源。 2）缺点：来自坩埚、加热元件及各种支撑部件的可能的污染；加热功率和加热温度有一定的限制；难以满足某些难熔金属和氧化物材料的需要等。 桂林电子科技大学 材料科学与工程学院 3. 1.10 真空蒸发装置 2、电子束蒸发装置 1）电子束蒸发法：将蒸发材料放入水冷铜坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜。 2）优缺点 优点：适用于高纯或难熔物质的蒸发；可时沉积多种不同的物质。 缺点：热效率较低；过高的热功率对整个沉积系统形成较强的热辐射。 桂林电子科技大学 材料科学与工程学院 3. 1.10 真空蒸发装置 3、电弧蒸发装置 （1）电弧蒸发法：用欲蒸发的材料制成放电的电极，依靠调节真空室内电极间距的方法来点燃电弧，瞬间的高温电弧将使电极端部产生蒸发从而实现物质的沉积。 （2）优缺点 1）优点：避免电阻加热材料或坩埚材料的污染；加热温度高，适用于溶点高、同时具有一定导电性的难熔金属、石墨等的蒸发；简单廉价。 2）缺点：在放电过程中容易产生微米量级大小的电极颗粒的飞溅，从而会影响被沉积薄膜的均匀性。 桂林电子科技大学 材料科学与工程学院 3. 1.10 真空蒸发装置 4、激光蒸发装置 （1）激光蒸发法：高功率激光器产生的高能激光束，可在瞬间将能量直接传递给被蒸发物质，使之发生蒸发镀薄。 （2）优缺点 1）优点：避免电阻加热材料或坩埚材料的污染；加热温度高；蒸发速率高；蒸发过程容易控制；特别的优点是：适用于蒸发那些成分复杂的合金或化合物。 2）缺点：也容易产生微小颗粒的飞溅，影响薄膜的均匀性。 桂林电子科技大学 材料科学与工程学院 3. 1.10 真空蒸发装置 5、空心阴极蒸发装置 （1）空心阴极蒸发法：在由中空金属Ta管制成的阴极和由被蒸发物质制成的阳极之间加上一定幅度的电压，并在Ta管内通入少量的Ar气时，阴阳两极间便发生放电现象。此时，Ar离子的轰击会使Ta管的温度升高并维持在2000K以上的高温下，从而发射出大量的热电子。将热电子束从Ta管引出并轰击阳极，即可导致物质的热蒸发，并在衬底上沉积出薄膜。 （2）优缺点 1）优点：可提供数安培至数百安培的高强度电子流，因而可以提高薄膜的沉积速度；可以改善薄膜的微观组织。 2）缺点：容易产生阴极的损耗和蒸发物质的飞溅。 桂林电子科技大学