基于遗传退火算法的多层薄膜厚度测量 multilayer film thickness measurement based on genetic simulated annealing algorithm.pdfVIP

第 37 卷第 2 期 光电工程 Vol.37, No.2 2010 年 2 月 Opto-Electronic Engineering Feb, 2010 文章编号：1003-501X(2010)02-0045-05 基于遗传退火算法的多层薄膜厚度测量 楚 栋，宫兴致，程 梁，余飞鸿 ( 浙江大学 光电信息工程学系，杭州 310027 ) 摘要：根据薄膜光学计算理论和最优化理论，本文提出了一种测量多层薄膜厚度的新的全局优化算法。首先利用 遗传的种群性去寻找多个局部极值，然后将较优和较差的种群按一定概率接收并作为模拟退火的初值进行搜索。 最后结合共轭梯度算法来提高收敛速度，使整体搜索效率进一步提高。这种遗传退火算法有效地提高了算法的稳 定性，减少了算法对膜厚搜索范围的限制。文章最后以 3 层和 4 层光学薄膜为例，利用该算法在 10 nm 至