同步辐射光刻的x射线反射谱表征 synchrotron radiation induced surface etching characterized by x-ray reflectivity.pdfVIP

第25卷第5期 电 子显微学报 V01．25．No．5 2006年lO月 ofCllim∞Electron 2006．10 Jour腑l Micr佣copySocie留 文章编号：1000一6281(2006)05一0368—05 同步辐射光刻的x射线反射谱表征 0 B3 杜晓松1，Hak C2，Stmth S2，Hibma T2，R090janu (1电子科技大学光电信息学院，四川成都610054； 2MateTialScience of 9747 AG，theNetherlands； Centre，UniversityGmningen，Groningen 3 Radiation Grenoble，France) EuropeanSynchmtmnFacility，BP220，38043 摘 要：采用x射线反射(xRR)谱对同步辐射导致的氧化物薄膜的刻蚀进行了在位测试，结果表明波长为o．154nm 的单色x光在室温下可对M90和Cr20，产生轻微的刻蚀。与文献中大量报道的同步辐射x射线光刻及烧蚀不同， 这是单色x射线光刻的首次报道。尽管刻蚀速率板慢，但利用xRR谱的高分辨率，成功地检测到了膜厚的减薄。 关键词：同步辐射；光刻；x射线反射谱 中图分类号：脚01 文献标识码：A 同步辐射光源由于具有亮度高、准直性好、从红 外至硬x射线频谱范围连续可调等特点，近十几年 仪获得cuK。，单色光，波长为o．154018nm。 来在材料研究领域获得了越来越广泛的应用。利用 同步辐射x射线作为光源，使得x射线衍射 (xRD)、反射与散射、扩展x射线吸收精细结构该光束线由波荡器引出同步辐射，然后送入一台 (ExAFS)、荧光等材料分析测试手段得到了极大的Huber六圆衍射仪，专门针对液体、固体表面进行高 发展。另一方面，用其作为激发源时，可对材料内的 分辨率散射和表面衍射。实验中通过金刚石(111) 各种元激发过程以及光化学反应过程等进行研究， 双晶单色器获得O．154359nm的单色光，其中，能量 同步辐射正成为一种新的材料加工方法¨1。例如同 储存环中的平均束流强度为100rnA，光通量为l× 步辐射x射线光刻瞳1可获得更细的线宽和更陡直 的刻蚀边界，可满足超大规模集成电路更进一步高 品共测试了4天，主要进行各种xRD扫描，并在不 密度化的要求。在纳米精细结构加工[3]，同步辐射 同的时刻，穿插了5次xRR测试。 增强化学气相沉积H1和同步辐射烧蚀(ablation)制备 2结果与讨论 薄膜bo等方面也展现出巨大的应用前景。 应该注意的是在材料分析测试方面，同步辐射 2．1 x】[浪厚度表征 x射线的高强度是一把双刃剑。比常规x射线源高 图1所示为同一氧化铬样品的xRR谱。其中 至少2个数量级的强度，一方面具有提高信噪比、缩 曲线a是采用x射线管作光源，由Philips衍射仪得 短测试时间、使超薄样品的测试成为可能等优势；但 到的测试结果，曲线b是曲线a的模拟结果。而曲 另一方面，如此高的强度也有可能使得样品在测试 线s。和s，是利用同步辐射光源，第1次和第5次的 时发生变化。本文报道了在对氧化铬薄膜进行同步 测试