有机聚合物光波导光刻工艺的优化 optimization of photolithography process on the polymer waveguide.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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有机聚合物光波导光刻工艺的优化 optimization of photolithography process on the polymer waveguide.pdf

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有机聚合物光波导光刻工艺的优化 optimization of photolithography process on the polymer waveguide

第27卷第4期光电子技术 V01．27No．4 2007年1Z月 OPTOEl，ECTRONICTECHNOI。OGY Dee．2007 有机聚合物光波导光刻工艺的优化’ 陈金明，胡国华，恽斌峰，崔一平 (东南大学先进光子学中心，南京210096) 摘要：针对RZJ一304(25mp．s)型正性光刻胶，对芯层为PMMA的光波导材料，研究接触式光刻机提高光刻分辨率的方法。分别采用不同的曝光强度和曝光时间来改变曝光量，研究其对光刻图形宽度的影响；并通过改变曝光后烘焙(PEB)的温度和时间以及采用不同的显影时间，研究了其对光刻图形宽度的影响，从而得出优化的光刻工艺参数。关键词：聚合物光波导；光刻工艺；曝光量；曝光后烘焙中图分类号：0472+8文献标识码：A 文章编号：1005—488X(2007)04—0224—04 of Processonthe OptimizationPhOtOIjthOgraphyPolymer CHEN Guo—hua，YUN Jin—ming，HU Bin—feng，CUIYi—ping (AdvancedPhotonCenter，Southeast210096，CHN) University，Nanjing isa strict onthewidthof inthe ofthe Abstract：There waveguideproduction requirement isan thewidthof polymerwaveguide．Photolithographicprocess importantaspectaffecting resistandPMMAcore methodforim— RZJ-304(25 layer，the waveguide．Usingmp．s)positive theresolutionwithcontact isstudied．Theeffectofthe dose， proving exposuresystem exposure width is whichisdeterminedthe andtime，onthe oftheresist stud— by exposureintensity pattern ied．AndtheeffectsofPEB and timeonthewidthoftheresist time，temperaturedeveloping pat— ternarealsostudied．The arederived． optimized parameters processing Keywords：polymerwaveguide；photolithographicprocess；exposuredo