有机气相沉积中薄膜厚度分布的模拟研究 simulation of thin-film thickness distribution for organic vapor phase deposition.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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有机气相沉积中薄膜厚度分布的模拟研究 simulation of thin-film thickness distribution for organic vapor phase deposition

SimulationofThin-FilmThicknessDistributionforOrganicVaporPhaseDeposition LIGuodongCHENWenbinZHAOQiyiRUIDawei 10.3969/j.issn.1005-9490.2011.05.005 有机气相沉积中薄膜厚度分布的模拟研究李国栋陈文彬赵启义芮大为电子科技大学光电信息学院，成都610054 摘要：有机气相沉积是一种基于载气体传输的有机薄膜生长方式。为了优化沉积参数，提高有机薄膜的均匀性，建立了简化的OVPD模型，模拟了不同传输条件对流体动力学边界层的影响。建立了有机分子沉积模型并利用蒙特卡洛法对边界层内的沉积过程进行仿真。结果表明在133Pa的操作压强下使气流雷诺数从0.05增加到15，可获得更薄、更均匀的边界层；沉积速度反比于边界层厚度,并且厚度均匀的边界层有助于获得较好的膜厚分布。有机薄膜；膜厚分布；蒙特卡洛法；有机气相沉积；流体动力学边界层；沉积参数 TB43 A 1005-9490(2011)05-0503-04 四川省应用基础研究(JY0003) 2011-05-12 2011-05-2 行热交换的i 有机气相； @@[1] BaldoM,DeutschM,BurrowsP,etal.OrgganicVaporPhase Deposition[J].AdvancedMaterials,1998,10(18):1505-1514. @@[2] YangF,ForrestSR.OrganicSolarCellsUsingTransparentSnO2-F anodes[J].AdvancedMaterials,2006,18(15):2018-2022. @@[3] EungkiL.SimulationofTheThin-FilmThicknessDistributionfor anOLEDThermalEvaporationProcess[J].Vacuum,2009,83 (5):848-52. @@[4]韩杰才，李晓海，陈贵清，等.EB-PVD制备箔材的厚度均匀性研究[J].航空材料学报，2006，26(1):25-28. @@[5] 黄春辉，李富友，黄维.有机电致发光材料与器件导论[M].上海：复旦大学出版社,2005:1-11；53-56. @@[6] ShteinM.OrganicVaporPhaseDepositionandVaporJetPrinting forElectronicandOptoelectronicDeviceApplications[D].2004: 97-100.