SJT11184 1998显影设备通用规范.pdfVIP

ICS 31.020 L 97 备案号:2087-1998 Si 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T 11184一1998 显影设备通用规范 General specification for developing equipment 1998-03-11发布 1998-05-01实施 中华人民共和国电子工业部 发布 标准分享网 免费下载 前 言 本标准是对SJ 3194-89(显影设备通用技术条件)的修订版本。 本标准与SJ 3194-89的主要技术差异如下: a)增加了定义; b)增加了安全和环保的要求; c)扩大了显影设备的使用范围，提高了对性能指标的要求。 本标准由电子工业部标准化研究所归口。 本标准起草单位:西北机器厂。 本标准主要起草人:马化营、王彦宁、郝 恭。 标准分享网 免费下载 中华人民共和国电子行业标准 SI/T 11184一1998 显影设备通用规范 代替Si 3194-89 General specification for developing equipment 1 范围 本标准规定了显影设备的定义、要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于半导体集成电路、晶体管中的硅片、石英铬板、玻璃板等(以下简称“基片”) 的显影设备。 2 引用标准 下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时，所 示版本均为有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的 可能性。 GB 191-90 包装储运图示标志 GB 2681-81 电工成套装置中的导线颜色 GB 2682-81 电工成套装置中的指示灯和按钮颜色 GB 5080.7-86设备可靠性试验 恒定失效率假设下的效率与平均无故障时间验证试 验方案 SJ 1635-1996电子工业管路的基本识别色和识别符号 SJ 20385-93 军用电子设备电气装配技术要求 3 定义 本标准采用下列定义。 3.1基片 ，ubstrate 用于制作半导体器件、晶体管、声表面波器件的单晶硅、石英玻璃等材料的底片的统称。 3.2 显影 developing 用溶剂去除未曝光部分(负胶)或曝光部分(正胶)，以得到所需要的光刻胶图形的过程。 3.3承片台 substrate table 用以承载基片，并带动基片同步旋转的机械部件。 分类与命名 4.1按自动化程度可分为: a) 自动显影设备; 中华人民共和国电子工业部1998-03-11批准 1998-05-01实施 标准分享网 免费下载 SJ/T 11184一1998 b)半自动显影设备。 4.2 按有无供干方式分为: a)带烘干装置的显影设备; b)不带烘干装置的显影设备。 43 按加工基片几何形状可分为: a) 圆片显影设备; b)方片显影设备。 5 要求 5.1使用条件 在下列条件下，设备应能正常工作。 a)环境a度:251C 1 5C; b)相对湿度:不大于60%; c