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电子束曝光系统中精密工件台的测量系统 measurement system of precision stage for e-beam aligner
、 、 与
显微测量微细加工技术设备
， ，
Microscope Measurement Microfabrication Equipment
电子束曝光系统中精密工件台的测量系统
严伟胡松杨勇周绍林蒋文波李艳丽乔俊仙
， ， ， ， ， ，
中国科学院光电技术研究所成都
（ ， ）
６１０２０９
摘要：介绍了电子束曝光技术的原理。根据精密工件台对测量系统的需要，设计了三轴工件台测
量系统布局方式并简单介绍了激光干涉测量系统所需元器件数量的计算方法重点讨论了双频
， 。
激光干涉测量原理、 。
双频光束与运动方向敏感性的关系以及读出装置信号处理方法在此基础
对研制的电子束曝光系统精密工件台进行了直线性和垂直性实验测试其测量分辨率达到
上， ，
， ， 。 ，
０．６ｎｍ测量重复性精度达到±０．０６ｍ测量绝对误差达到０．０１１ｍ结果表明采用双频
μ μ
激光测量系统可确保工件台系统测量和定位准确性。
关键词：电子束曝光机；激光干涉仪；精密工件台；光刻；方向敏感性
文献标识码 文章编号
中图分类号： ： ： （ ）
ＴＮ３０５．７ Ａ １６７１－４７７６２００９０４－０２４４－０６
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