高反射率193nm反射膜的实现 the achieving of high-reflectance 193nm hr coatings.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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高反射率193nm反射膜的实现 the achieving of high-reflectance 193nm hr coatings.pdf

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高反射率193nm反射膜的实现 the achieving of high-reflectance 193nm hr coatings

第28．卷第1期应用激光 V01．28。No．1 APPLlEDLAsER 2008 2008年2月 February 93 高反射率1 nm反射膜的实现* 尚淑珍1，赵祖欣1，邵建达2，范正修2 (1华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室，上海200237 2中国科学院上海光学精密机械研究所。上海201800) 提要对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择，在此基础上进行了193nm反射膜的设计、制备及后处理．实现了时间稳定性与环境稳定性良好的193nm反射膜，反射率达98％以上。关键词 193nm；反射膜；反射率；光学稳定性中图分类号：0484．4 文献标识码：A 、The of 193nmHR High。reflectanceCoatings Achieving 2 ， shuzhenl，ZhaoZuxinl，Shao 2， Fan Shang jianda Zhengxiu (1 Lab SciencePressurized Education，SchoolMechanical Key ofSafety of System，Ministryof of Engineering EastChina Scienceand Universityof Technology，S^口ng^口i200237，China 2 Institute andFineMechanics，Chinese 201800，China) Shanghai ofOptics AcademyofSciences，Shanghai AbstractThematerialsofsubstrateand methodandmain for193nmHRmirrors film。depositing technologicalparameters were and onthebasis0f the193nmHRmirrorswere andannealed．The analyzedoptimized which designed．prepared coatings with ofmorethan timeandenvironmentwereachieved． reflectance 98％andvery high stability words 193nm；HR Key Coatings；reflectance；opticalStability l 引言另外由于波长短，在薄膜的膜厚度控制和工艺稳定集成电路之所以能飞速发展，光刻技术的支上提出了相对于其它激光薄膜更高的要求，同时也持起到了极为关键的作用，因