功率器件硼基区注入工艺研究 an investigation into boron base implantation for power devices.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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功率器件硼基区注入工艺研究 an investigation into boron base implantation for power devices.pdf

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功率器件硼基区注入工艺研究 an investigation into boron base implantation for power devices

第卷第期微电子学 # () ’ YCMZ() [ ’ 年月 !) ! $%’()*)+’(,%- 1;SZ!) 功率器件硼基区注入工艺研究曾莉!税国华!李杰 ! ! !模拟集成电路国家重点实验室中国电子科技集团公司第二十四研究所#重庆 $ *# ! ! 摘要! 随着功率双极集成电路在军民两用的各种电源管理功率驱动等领域的广泛应用!以及 ! ! 集成电路生产规模的进一步扩大!对参数一致性重复性均匀性的要求越来越高#文章重点介绍功率器件硼基区注入工艺!对工艺原理和工艺方案进行了详细阐述#并给出了工艺结果以及在产品中的应用情况$ 关键词! 功率器件#离子注入#硼基区#集成电路工艺 ! 中图分类号! 文献标识码! 文章编号! # $ 23(Z( 6 ’*$((#!)’$!*$* ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! +,O,M480%-0%2,%,02@272,@-84O= .-,0-0%2,52792:47H4M%148 F B # # e03D H- ,+8WD:C$:= HWb-; ! # # # $ A0’,)308I% E0G).0’). ) R308) !3’%.0’%:=,.-,’6 9,-03!36’,’’%) 9)8,:9’0’%=,.-,’6=2;= =)3 ,3 *#?(@(=,30 7 7 * 4 4 * 4C 4 ! % +;807-10 2;= M-F=O-CCP CR;JS-CM=JW. Q- CR;JA==;A;O=L CR;JLJ-K;=LO;-FJ;=Q- QF=M; ! II I I I ? I ? # CPW. JCL:FO-C=J;-A CQ- QOJ-FOJ;:-J;A;OQCL;K-F; =J=A;O;JQPCJFCQ-QO;F J;;=O=S-M-O =L:-PCJA-O4 I I ? c I N I N N # WO-Q =;J SCJC-C-A M=O=O-C-OCS=Q;J;-CCP CR;JL;K-F;Q-QL;QFJ-S;L42; J-F-M;CPO; JCF;QQ=L