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研究牙釉质龋表层带形成原因【中图分类号】R783 【文献标识码】A 【文章编号】1672－3783(2011)07－0268－01 【关键词】牙釉质龋表层带 龋发展过程中，釉质内出现四层有特征性的带，他们分别代表了龋破坏的不同阶段。在四层病变中，表层带是一层相对完整、损害较轻的薄带，研究它的形成机理对理解龋损的破坏与修复有着重要意义。有人认为表层带的形成与表层釉质结构有关，也有人提出周围环境、致龋条件决定了表层带形成。本文通过对自然龋形态的观察及人工龋实验结果的分析，着重讨论了表层带的厚度及形成原因。 材料与方法 1 自然龋牙：口腔外科拔除的表面有白垩改变的早期釉质龋牙100例。沿龋损区纵剖开磨成100μｍ厚的牙薄片，在正交偏光下分别经水、乙醇、喹啉介质浸渍，观察釉质龋表层病变的形态变化。 2 人工龋模型：本实验共用正常牙40颗，分切后得牙块，平均分为10组，每组牙在各自的条件下制成人工龋。本实验用的三种致龋方法是：（1）酸性明胶人工龋：用国产明胶分别配成11%、5%、3.5%和2%浓度的明胶液，溶液含有0.1Ｍ的乳酸液，用10ｍＭ NaOH将PH调至4.6。实验用牙分组方式是：①同一牙分切成３块，共用10颗牙，在５%、3.5%和2%酸性明胶液内浸泡。（2）酸钙人工龋：配好的含有0.1Ｍ乳酸液内加入定量羟磷灰石溶液，溶液内钙离子浓度为3ｍＭ。用NaOH将PH调至4.6。每一实验用牙分切成二块,其中一块磨去表层釉质,共用10颗牙。(3)乳酸酸蚀人工龋:0.1Ｍ乳酸液,用NaOH将PH调至4.6。共用10颗牙。用指甲油涂在正常牙面,留约1.2?宽、5-7?长的开窗面,将涂好的牙悬挂在人工致龋液内,致龋液保持37℃恒温。明胶乳酸液每三周换一次，酸钙人工致龋液每二天换一次，单纯乳酸液不换液，泡三天。 结果 1 自然龋的表层带：用水浸渍釉质龋磨片，偏光镜下见100例早期釉质龋中90例表面有一层负性双折射的薄带，称表层带。表层带平均厚度在40μｍ,最薄15μｍ,最厚180μｍ。76%的表层带厚度在15-45μｍ内。表层下方是正性双折射区，为损害体部。如将浸渍介质换为喹啉或进口树胶，表层带下方的正性双折射区转变为负性双折射，表层带和损害体部融为一体。故当用喹啉或进口树胶作浸渍介质时，没有表层带出现。10例没有表层带的釉质龋中有6例龋损深度已超过500μｍ。 2 酸性明胶人工龋的表层带:5%、11%、酸性明胶使未去表层釉质形成有表层带的人工龋，而2%、3.5%酸性明胶液造成的人工龋中没有表层带出现。统计结果表明由11%和5%酸性明胶液形成的表层带厚度没有显著性差异。 当表层釉质被去除后，则5%酸性明胶不能形成表层带。5%酸性明胶使未去表层釉质形成表层带，而去表层釉质不形成表层带，说明釉质表层结构与表层带形成有一定关系。 用11%酸性明胶液浸泡去表层釉质的实验结果是：10例去表层人工龋中5例有很厚的表层带出现 ，平均厚度为141μｍ。其余5例仅有透明层，没有表层带、损害体部和暗带出现。 3 酸钙人工龋的表层带：含有3ｍＭ钙离子的乳酸液可使未去表层釉质形成 表层下脱矿，表层带平均厚15.56μｍ.去表层釉质没有表层带形成。 4 乳酸酸蚀人工龋表层带：在PH4.6，0.1Ｍ乳酸浓度下，去表层和未去表层釉质均无表层带形成。偏光镜下见部分表层釉质被蚀去，残留的酸蚀釉质为正性双折射区。 讨论 1 表层带的厚度：偏光显微镜、软射线片和扫描电镜均可用于表层带厚度的测量。多年来，许多学者对表层带的厚度进行了研究，其所测得厚度，偏光镜下表层带平均厚40μｍ。观察中还发现５例表层带厚度超过120μｍ的早期自然釉质龋损。人工龋表层带厚度多低于自然龋。酸钙人工龋表层带仅有15μｍ。11%酸性明胶人工龋表层带稍厚些。11%酸性明胶形成的表层带比5%酸性明胶形成者稍厚，但在统计学上二者没有显著性差异。本人认为表层带厚度与龋深度无关，如本研究自然龋标本中第16号表层带厚90μｍ，龋损深为165μｍ，而第20号龋已深达652μｍ，表层带仅有15μｍ厚。用统计学方法处理100例龋损的结果表明龋损深度与表层带厚度之间无相关关系。 2 表层带的成因：30年代中外研究人员用显微射线法发现釉质龋表面有一层薄的阻射带。后来，表层带一词逐渐被接受。在人工龋实验中，去表层釉质仍能形成表层带，证明单从釉表层结构与表层下不同来解释表层带的形成是不完善的。也有人从物理化学角度来说明表层带的形成，认为表层带的固态和液态间化学动力学活动的结果。 本实验结果表明，表层带的形成与多种因素有关，它是综合作用的结果。在PH值保持不变的条件下，用5%酸性明胶或含有3ｍＭ钙离子的乳酸液制成人工龋时，未去表层釉质有表层带