制备工艺对zno薄膜的结构与光学性质的影响 influence of fabrication technique on structure and optical properties of zno thin films.pdfVIP

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2017-08-27 发布于上海
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制备工艺对zno薄膜的结构与光学性质的影响 influence of fabrication technique on structure and optical properties of zno thin films.pdf

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制备工艺对zno薄膜的结构与光学性质的影响 influence of fabrication technique on structure and optical properties of zno thin films

第26 卷第2 期电子元件与材料 Vol.26 No.2 2007 年2 月 ELECTRONIC COMPONENTS AND MATERIALS Feb. 2007 研究与试制制备工艺对ZnO 薄膜的结构与光学性质的影响 1,2 2 2 3 2 1 赵银平，丁瑞钦，朱慧群，胡怡，王忆，汪河洲（1. 中山大学光电材料与技术国家重点实验室，广东广州 510275；2. 五邑大学薄膜与纳米材料研究所，广东江门 529020；3. 暨南大学化学系，广东广州 510632）摘要: 利用射频磁控反应溅射技术生长出具有高度晶面(0002)取向的 ZnO 外延薄膜。通过 AFM 、XRD 、吸收光谱和荧光光谱等测试手段，分别研究分析了不同衬底、不同溅射气氛和退火对 ZnO 薄膜结构及光学性质的影响。研究表明，在200 ℃低温生长的硅基 ZnO 薄膜具有几百纳米的氧化锌准六角结构外形；当氧氩比为 4 : 1 （质量流量比）时，吸收谱激子峰最佳；退火后，激子峰(363 nm)加强，同时出现了 402 nm 的本征氧空位紫光发射。关键词: 半导体技术；射频磁控反应溅射；ZnO 外延薄膜；光致发光中图分类号: TN304.2+ 文献标识码:A 文章编号:1001-2028 （2007 ）02-0020-04 Influence of fabrication technique on structure and optical properties of ZnO thin films 1 2 2 3 2 1 ZHAO Yin-ping , DING Rui-qin , ZHU Hui-qun , HU Yi , WANG Yi , WANG He-zhou (1. State Key Laboratory of Optoelectronics, Zhongshan University, Guangzhou 510275, China; 2. Institute of Thin Film and Nanomaterials, Wuyi University, Jiangmen 529020, China; 3. Department of Chemistry, Jinan University, Guangzhou 510632, China) Abstract: Low temperature epitaxial growth of highly c-axis (0002) oriented ZnO thin films were achieved on n-Si(001)and quartz glass substrates separately by reactive radio frequency (RF) magneto co-sputtering technique. The properties of the samples were studied by XRD, AFM, ABS and PL. It is found that the structure and optical properties of ZnO thin films