hdi pcb制造中采用tea co2激光的铜直接钻孔 copper direct drilling with tea co2 laser in high-density interconnection printed circuit board manufacturing.pdfVIP

  • 8
  • 0
  • 约 4页
  • 2017-08-27 发布于上海
  • 举报

hdi pcb制造中采用tea co2激光的铜直接钻孔 copper direct drilling with tea co2 laser in high-density interconnection printed circuit board manufacturing.pdf

hdi pcb制造中采用tea co2激光的铜直接钻孔 copper direct drilling with tea co2 laser in high-density interconnection printed circuit board manufacturing

I HDPCB制造中采用 TEAC02激光的铜直接钻孑L 蔡积庆编译 (江苏南京 210018) 摘要 研究了采用二氧化碳(CO:)激光在高密度互连(HDI)印制板(PCB)的铜导体层上有效的微导通孔形成的铜直 接钻孔的方法.在铜导体箔的表面上镀覆金属锡层,以便增进铜导体箔上的cO:激光能量吸收。镀层表面采用各种脉冲 能量的c0:激光进行钻孔.采用一种激光脉冲可以在9¨皿厚度的抛光铜导体层上有效地形成优质的微导通孔. 关键词 CO:激光钻孔;高密度互连印制板制造;激光电子束能量密度;能量吸收系数 TEALaserin Direct with C02 CopperDrilling PrintedCircuitBoard Interconnection (,TAj.,i。碍fng Ab鳓a供 nlicIDVia AmetllodforCu ca蛔l fbfe厢ci锄t direct鲥11jngby dioxide(C02)la∞rw勰iIlvestigabed 胁tion伽meCu of c疵uit metal‘tiIl board(PCB).A c伽du砸nglayefhigll—d印s时jllterco彻ection(HDI)0f皿ntc(1 to tlle l嬲cr onit.Theco砷巳d wascoatedontllesuffaceofCu e111lance layer conduct舛foil C02 energyabsorption iIl weret|lend棚eda laserwinlv撕ous lIlicr;oViaholes、懈-e f;o咖ed su嘲ce byC02 pul∞energi懿.7Ik ef!fici锄ny good wimo∞l船er on Cuconductor 删ity pulse9岬卜mickpolished lay既 words r.ntedcIrcuit I(ey laser r.ng: C02 dr¨¨ng:high-densityinterconnetion(HDI)p Iaserbeam coefficient energydensity:energyabsorpton 微导通孔形成是HDIPCB制造中的一种关键技 械钻孔方法还难以生产盲导通孔,因而难以提供多 术,尤其是日益发展的轻量化、便携化和高集成化 层板所需要的垂直互连。由于激光钻孔具有许多优 等高端电子机器的需求,许多先进的PCB往往制造 良特性,因而近年来激光钻孔正在取代机械钻孔工 成含有层间互连用的金属化孔的多层导体。传统的 艺。在PCB工业中,C0,、YAG,uv、激发物激 机械钻孔技术一般局限于100um以上的孔径尺寸, 光等若干激光已经用于PCB工业中的孔加工。C02 由于钻头的经常损坏和机器停

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档