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第九章、存储器和可编程逻辑

数字电子技术;第9章 存储器和可编程逻辑器件;9.1 半导体存储器;按制造工艺来分:;二、掩膜只读存储器(ROM);ROM的基本结构 ;二极管ROM结构图 ;ROM的数据表 ;3.MOS管ROM;2. 一次性可编程ROM(PROM)。出厂时,存储内容全为1(或全为0),用户可根据自己的需要进行编程,但只能编程一次。;3. 紫外线擦除可编程ROM(EPROM)。采用浮栅技术,可通过紫外线照射而被擦除,可重复擦除上万次。;   ;1)SRAM的基本结构;2)SRAM静态存储单元;2.动态随机存储器(DRAM);V;①写入信息时,字线为高电平,VT导通,位线上的数据经过VT存入CS。;四、存储器容量的扩展;2. 字扩展方式--增加地址端个数;用256×8 位的RAM扩展为1024×8 位RAM的系统框图; 自20世纪60年代以来,数字集成电路已经历了从SSI、 MSI、LSI到VLSI的发展过程。数字集成电路按照芯片设计方法的不同大致可以分为三类: ① 通用型中、 小规模集成电路; ② 用软件组态的大规模、 超大规模集成电路, 如微处理器、 单片机等; ③ 专用集成电路(ASIC-Application Specific Integrated Circuit)。 ASIC是一种专门为某一应用领域或为专门用户需要而设计、制造的LSI或VLSI电路,它可以将某些专用电路或电子系统设计在一个芯片上, 构成单片集成系统。 ;1. PLD连接的表示;3. 与门及或门的表示;与阵列; 低密度可编程逻辑器件的集成密度小于每片700 个等效门,它主要包括PROM、PLA、PAL和GAL四种器件。 ;一、可编程只读存储器PROM ;例:试用PROM实现4位二进制码到Gray码的转换。;二、可编程逻辑阵列PLA ;与;时序型PLA基本结构图 ;1 1 1 0 0 0 0 1 0 1 0 0;③求状态、驱动和输出方程;④画阵列图;三、可编程阵列逻辑PAL ;例:试用PAL实现下列逻辑函数。;2.PAL的四种输出结构;②可编程I/O输出结构;③寄存器输出结构;I; GAL是在PAL的基础上发展起来的,具有和PAL相同的与或阵列,即可编程的与阵列和固定的或阵列。不同的是它采用了电擦除、电可编程的E2PROM工艺制作,可以用电信号擦除并反复编程上百次。GAL器件的输出端设置了可编程的输出逻辑宏单元OLMC(Output Logic Macro Cell),通过编程可以将OLMC设置??不同的输出方式。这样同一型号的GAL器件可以实现PAL器件所有的各种输出电路工作模式,即取代了大部分PAL器件, 因此称为通用可编程逻辑器件。 GAL器件分两大类:一类为普通型GAL,其与或阵列结构与PAL相似,如GAL16V8(V表示输出方式可变)、GAL20V8 、ispGAL16Z8都属于这一类;另一类为新型GAL,其与或阵列均可编程, 与PLA结构相似,主要有GAL39V8。 ;优点: ① 采用电擦除工艺和高速编程方法,使编程改写变得方便、 快速,整个芯片改写只需数秒钟,一片可改写 100 次以上。 ② 采用E2CMOS工艺,保证了GAL的高速度和低功耗。存取速度为 12~40 ns,功耗仅为双极性PAL器件的1/2或1/4,编程数据可保存 20年以上。 ③ 采用可编程的输出逻辑宏单元(OLMC),使其具有极大的灵活性和通用性。 ④ 可预置和加电复位所有寄存器,具有100%的功能可测试性。 ⑤ 备有加密单元,可防止他人非法抄袭设计电路。;缺点: GAL和PAL一样都属于低密度PLD,其共同缺点是规模小,每片相当于几十个等效门电路,只能代替 2~4片MSI器件,远达不到LSI和VLSI专用集成电路的要求。 另外,GAL在使用中还有许多局限性,如一般GAL只能用于同步时序电路,各OLMC中的触发器只能同时置位或清0,每个OLMC中的触发器和或门还不能充分发挥其作用,且应用灵活性差等。这些不足之处,都在高密度PLD中得到了较好的解决。 ;1. 阵列扩展型高密度可编程逻辑器件 ;2. 现场可编程门阵列FPGA ;FPGA的基本结构 ;第9章 小结

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