溅射台说明书剖析.docVIP

超高真空磁控溅射设备 使 用 说 明 书 沈阳奇汇真空技术有限公司 一 设备简介 该设备是用于在真空状态下进行磁控溅射试验的科学仪器。设备的密封采用金属密封与氟胶圈密封相结合的方式，电极采用陶封技术，运动采用金属焊接波纹管结构。设备整体用优质不锈钢制造，系统可靠，运动灵活，定位准确。 设备的主要结构及介绍 设备按外观结构可分为三部分，磁控溅射室、、、℃，长时间在500℃条件下工作，控温精度±2℃。 水冷样品台可以和加热样品台更换使用，安装在磁控溅射室上方，采用不锈钢焊接而成，冷却效果良好。（如图三）  加热样品台 （图三） 水冷样品台 2.1.2真空获得系统 由2X—4B机械泵1台，620C分子泵（中科科仪KYKY 620C）1台，上海三井的100L离子泵一台，K-100扩散泵一台，CF150超高真空闸板阀1台，CF100超高真空闸板阀1台，CF35超高真空角阀1只。通断蝶阀一只，KF40电磁真空阀3只，Ф32金属波纹管路3段，(总长6.5米)构成。详见配套部分的《插板阀说明书》《110A分子泵说明书》《2XZ-4B机械泵使用说明书》，《三井离子泵使用说明书》 2.1.3真空获得系统 真空测量系统由测量规管和超高真空真空计组成。该机配有KF电阻规、超高真空金属电离规。详见《正华真空计说明书》。 磁控靶 3寸磁控溅射靶，靶体采