薄膜材料研究中的xrd技术 xrd technique in the research of thin fhin film materials.pdfVIP

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2017-08-31 发布于上海
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薄膜材料研究中的xrd技术 xrd technique in the research of thin fhin film materials

、、与显微测量微细加工技术设备，， Microscope Measurement Microfabrication Equipment 薄膜材料研究中的技术犡犚犇周元俊谢自力张荣刘斌李弋张曾，，，，，，　　　　傅德颐修向前韩平顾书林郑有? ，，，，　南京大学物理系江苏省光电信息功能材料重点实验室南京（，）２１００９３　摘要：晶格参数、应力、应变和位错密度是薄膜材料的几个重要的物理量，射线衍射（）ＸＸＲＤ为此提供了便捷而无损的检测手段分别从以上几个方面阐述了技术在薄膜材料研究中的。ＸＲＤ应用：介绍了采用测量半导体薄膜的晶格参数；结合晶格参数的测量讨论了半导体异质结ＸＲＤ重点介绍了利用模型分析位错密度其中比较了几种不同的通过构的应变与应力；Ｍｏｓａｉｃ，ＸＲＤ处理模型且讨论了它们计算位错密度时的优劣综合技术的理论及在以上几个方Ｍｏｓａｉｃ，。ＸＲＤ对将来的发展做出了展望面的最新研究进展，ＸＲＤ。关键词射线衍射晶格参数应力应变位错密度模型：；；；；；ＸＭｏｓａｉｃ中图分类号：；文献标识码：文章编号：（）Ｏ７２Ｏ４７２Ａ１６７１－４７７６２００９０２－０１０８－０７　　犡犚犇犜犲犮犺狀犻狌犲犻狀狋犺犲犚犲狊犲犪狉犮犺狅犳犜犺犻狀犉犻犾犿犕犪狋犲狉犻犪犾狊狇，，，，，，ＺｈｏｕＹｕａｎｕｎＸｉｅＺｉｌｉＺｈａｎＲｏｎＬｉｕＢｉｎＬｉＹｉＺｈａｎＺｅｎｊｇｇｇｇ，，，，ＦｕＤｅｉＸｉｕＸｉａｎｉａｎＨａｎＰｉｎＧｕＳｈｕｌｉｎＺｈｅｎＹｏｕｄｏｕｙｇｑｇ