二次离子质谱仪原理简介 二次离子质谱仪（secondary ion mass .docVIP

二次离子质谱仪原理简介 二次离子质谱仪（Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS） 图一， IMS1280/HR型离子探针原理示意图 一次离子部分包含了两个离子源分别是可以产生Oー和O2ー以及O+离子的双等离子体离子源（Duo Plastron Source）和产生Cs+离子的热电离铯离子源（Cs Ion Source），一般分别对应地学领域分析中的正电性元素（如 Pb、U、Th、REE、Li、Ca等）和负电性元素（如 C、O、S、H等）。两个离子源由软件控制选择，所产生的离子通过高压（一般为数千伏特）加速后进入一次离子质量过滤器（PBMF）进行质量筛选，常用的一次离子有 16Oー、16O2ー或133Cs+离子。后续的一次离子光路通过调整离子透镜Lens2, Lens3和Lens4的电压可以获得两种照明方式：均匀照明（科勒照明或平行光照明）和高斯照明。一次离子光路原理如图二所示。 均匀照明模式使用离子透镜Lens2将一次离子束调整为“平行光”，并穿过位于其后的一次束光阑（PBMF_Aperture），再通过离子透镜Lens4将该光阑成像到样品表面。在该模式下，离子束的直径由PBMF_Aperture的大小决定，由于该光阑受到离子束的剥蚀而逐渐变大，因此实际上这种模式的离子束直径是随时间不断变化的，对空间分辨率不太敏感的应用可以使用该模式。实验室的常