离子镀及其他PVD方法.ppt

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2017-09-01 发布于江西
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离子镀及其他PVD方法

薄膜材料制备技术Thin Film Materials 北京科技大学材料科学学院唐伟忠 Tel: 6233 4144 E-mail: wztang@ 课件下载网址： wztang_teaching@ 下载密码： 123456 第四讲薄膜材料制备的离子镀及其他 PVD 方法 Preparation of thin films by ion plating and other PVD methods 提要离子镀方法的原理和特点各种各样的离子镀方法其他制备薄膜的PVD方法第四讲小结薄膜材料还可以使用多种物理气相沉积方法来制备，其中离子镀是一种获得广泛应用的技术离子镀方法虽然千差万别，但其最主要的特点是其结合了蒸发法和溅射法的优点，并力图提高被沉积物质的气体的离化率、提高轰击薄膜表面的离子的能量和活性离子镀的优点包括高的致密度、薄膜附着力等基本概念复习离子镀方法的基本设备构成与该方法的优点不同离子镀方法的概况真空阴极电弧离子镀产生宏观粒子缺陷的原因和避免方法溅射离子镀方法三种主要的 PVD 方法的特性比较目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深提高约300倍目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深提高约300倍目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深提高约300倍目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深提高约300倍目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深提高约300倍目前，SEM已经成为材料研究的重要（最重要）工具。与光学显微镜相比，两个特点： 1）放大倍率范围大（10-100,1000），相对光镜的约2000倍 2）景深