纳米二氧化硅的制备表征及对废水中染料吸附.docVIP

纳米二氧化硅的制备、表征及对吸附1 掌握纳米材料二氧化硅的制备方法 2学习纳米材料的分析测试手段 3 了解废水处理的方法 2通常条件下, 硅酸钠与盐酸反应生成硅酸沉淀, 即: Na2SiO3 + 2HCl+ H2O＝H4SiO4 + NaCl 另外, 硅酸单体之间也进行缩聚反应: : 因此能迅速形成许多相对致密的SiO2 胶体颗粒, 经过过滤、洗涤、干燥和高温灼烧得到纳米二氧化硅。 纳米二氧化硅有很多孔结构，具有比较大的比表面积，且表面有丰富羟基，能够吸附很多物质，如废水中的有机物等。 3 实验试剂和仪器 ·xSiO2)，模数3100，郑州泡花碱厂；盐酸(HCl)，CP，上海化学试剂总厂；AgNO3，CP，天津化学试剂厂；亚甲基蓝粉末，商用载体SiO2，青岛海洋化工厂透射电子显微镜（TECNAI G0）Brukers D8型X-射线粉末衍射仪(CuKα靶)4 实验内容 4.1纳米二氧化硅的制备 ·x SiO2的反应如下: Na2O·x SiO2+nH2O+2 HCl= 2NaCl+xSiO2·(n+2)H2O 沉淀静置老化后，抽滤，用蒸馏水反复洗涤沉淀，并用质量浓度为15%的AgNO3溶液检测洗液中的Cl-，至溶液中无AgCl白色沉淀为止, 常压80℃烘箱干燥。所得产品在马弗炉中400℃高温灼烧。可得多孔纳米二氧化硅粉末，于研钵中研磨成细末备用。 4.2纳米二氧化硅的 4.1.1纳米二氧化硅TEM测试在 FEI Tecnai G2 20型电镜上进行，操作电压为120 kV。样品是将数滴用无水乙醇洗涤3次并于无水乙醇中的滴至镀有碳膜的铜网上，自然晾干所得。纳米二氧化硅XRD测试在Bruker D8型X-射线衍射仪上进行。Cu靶Kα射线，电流50 mA，电压40 kV。X-射线衍射仪上步长为0.02，每步时间为4秒。 4.2纳米二氧化硅的4.2.1工作曲线法mol?L-1亚甲基蓝溶液，分别放入5个50ml容量瓶中，并用纯水稀释至刻度，混合均匀后，用1cm比色皿，在λ=60nm的条件下，用72型分光分度计测定吸光度。作吸光度A? -浓度图。表 容量瓶编号 1 2 3 4 5 的体积（mL） ? ?0.40 ? 0.60 ?0.8 1.00? 亚甲基蓝溶液的（mol?L1） 6.0×10-5 8.0×10-5 1.0×10-4 吸光度A ? ? ? ? ? 4.2.1工作曲线法吸光度373.90g/mol )的摩尔数。 5 实验纳米二氧化硅纳米二氧化硅纳米二氧化硅