第一章 文献综述
第一章 文献综述
1.1研究背景及应用意义
高能射线探测技术无论是在核安全检测的国防领域,还是在医学成像和
工业在线监测的民用领域都发挥着极为重要的作用m。要准确灵敏地检测高
能射线,就需要具有高分辨率的X射线及7射线探测器。对于像高纯Si、高
纯Ge和高阻NTDSi(中子擅变掺杂NeutronTransmutationDoping)元素半
导体,现在己经能制备出适合于核辐射探测器要求的高质量 (高纯、高完整
性)材料,而且在元素半导体上制备P-N结和欧姆接触的技术也己经较成熟
和完善。因为Si,Ge的少数载流子寿命长、迁移率大 (w:乘积可以达到
0.22-0.84cm2N),所以自六十年代以来Si,Ge半导体核辐射探测器就得到了
迅猛的发展。但是作为X,7射线的测量由于Si,Ge半导体的禁带宽度较窄
(Ge的E:为0.66eV;Si的E。为1.06eV)所以必须在低温下I作。Ge探测
器虽然被广泛应用于X射线及Y射线探测,并且这种探测器具有优良的能量
分辨率,但是由于禁带宽度较小,所以需要添加液氮制冷。从禁带宽度可以
看出Si如果应用于X,7射线探测器虽然比G。所需要的温度要高,但是也没
有避免
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