电子回旋共振波等离子体及其应用 generation and application of electron cyclotron wave resonance plasma.pdfVIP

真　空　科　学　与　技　术　学　报 第３６卷　第３期 ３２４ ＣＨＩＮＥＳＥ ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ ＶＡＣＵＵＭＳＣＩＥＮＣＥ ＡＮＤ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ２０１６ 年３ 月 电子回旋共振波等离子体及其应用 殷冀平　蔺　增　巴德纯* （机械工程与自动化学院东北大学　沈阳　１１０８１９） Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｏｆＥｌｅｃｔｒｏｎ Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ Ｗａｖｅ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ Ｐｌａｓｍａ Ｙｉｎ Ｊｉｐｉｎｇ，Ｌｉｎ Ｚｅｎｇ，Ｂａ Ｄｅｃｈｕｎ* （Ｓｃｈｏｏl ｏｆＭｅｃｈａｎｉｃａl Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ ＆Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ，Ｎｏｒｔｈｅａｓｔｅｒｎ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｓｈｅｎｙａｎｇ １１０８１９，Ｃｈｉｎａ） 　　Ａｂｓｔｒａｃｔ　Ｔｈｅ ｌａｔｅｓｔ ｐｒｏｇｒｅｓｓ ｏｆ ｔｈｅ ｐｌａｓｍａｓ ｇｅｎｅｒａｔｅｄ ｂｙ ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ ｗａｖｅ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ （ＥＣＷＲ）ｗａｓ ｔｅｎｔａｔｉｖｅｌｙ ｒｅｖｉｅｗｅｄ ｉｎ ａ ｔｈｏｕｇｈｔ ｐｒｏｖｏｋｉｎｇ ｗａｙ．Ｔｈｅ ｄｉｓｃｕｓｓｉｏｎｓ ｃｅｎｔｅｒｅｄ ｏｎ：ｉ）Ｔｈｅ ｐｌａｓｍａ ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ ｍｅｃｈａ- ｎｉｓｍｓ；ｉｉ）Ｉｔｓ ａｄｖａｎｔａｇｅｓ ｏｖｅｒ ｔｈｅ ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎａｌ ｇｌｏｗ ｄｉｓｃｈａｒｇｅ ｐｌａｓｍａ，ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ｂｕｔ ｎｏｔ ｌｉｍｉｔｅｄ ｔｏ ｈｉｇｈｅｒｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ ｒａｔｅ，ｈｉｇｈｅｒ ｉｏｎ ｃｕｒｒｅｎｔ ｄｅｎｓｉｔｙ，ｍｏｒｅ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅｄ ｅｎｅｒｇｙ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ，ｌｏｗｅｒ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ａｎｄ ｆａｓｔｅｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ｒａｔｅ ｉｎ ｇｒｏｗｔｈ ｏｆｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｃｏａｔｉｎｇｓ，ｗｉｄｅｒｆｉｌｍ-ｇｒｏｗｔｈ ａｒｅａ，ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ-ｆｒｅｅ ｒｅａｃｔｏｒ，ｍｏｒｅ ｓｕｉｔａｂｌｅ ｆｏｒ ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ ｐｒｏｄｕｃ- ｔｉｏｎ；ａｎｄ ｉｉｉ）Ｉｔｓ ｗｉｄｅ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ ａｓ ｐｌａｓｍａ ｓｏｕｒｃｅｓ ｉｎ ａ ｖａｒｉｅｔｙ ｏｆ ｓｕｒｆａｃｅ ｐｒｏｂｅｓ，ｉｎ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ ｃｏａｔｉｎｇｓ ａｎｄ ｉｎ ｅｔｃｈｉｎｇ ｏｆｓｕｒｆａｃｅｓｗｉｔｈ ｈｉｇｈ ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ，ｂｅｃａｕｓｅ ｔｈｅ ｔｗｏ ｉｎｄｅｐｅｎｄｅｎｔ ｐｏｗｅｒ ｓｕｐｐｌｉｅｓ ａｒｅ ａｖａｉｌａｂｌｅ： ｏｎｅ ｉｓ ｔｏ ｇｅｎｅｒａｔｅ ＥＣＷＲｐｌａｓｍａ ａｎｄ ｔｈｅ ｏｔｈｅｒｉｓｔｏ ｅｘｔｒａｃｔ ａｎｄ ｐｒｅｃｉｓｅｌｙ ｃｏｎｔｒｏｌ ｔｈｅ ｉｏｎ ｃｕｒｒｅｎｔ ａｎｄ ｅｎｅｒｇｙ ｄｅｎｓｉ- ｔｉｅｓ．Ｉｎ ａｄｄｉｔｉｏｎ，ｔｈｅ ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｔｒｅｎｄｓａｎｄ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓｏｆｔｈｅ ＥＣＷＲｐｌａｓｍａｗｅｒｅ ｄｉｓｃｕｓｓｅｄｗｉｔｈ ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔｓａｎｄ ｄｉａｇｎｏｓｉｓ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ ｓｕｃｈ ａｓ Ｌａｎｇｎｕｉｒ ｐｒｏｂｅ． 　　Ｋｅｙｗｏｒｄｓ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ ｗａｖｅ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ，Ｆｉｌｍ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，Ｐｌａｓｍａ ｓｏｕｒｃｅ，Ｌａｎｇｍｕｉｒ ｐｒｏｂｅ 　　摘要　电子回旋共振波等离子体是依靠特殊的电磁波与电学各向异性材料相互作用来实现的，它被证明是一种适用于 改进传统真空镀膜工艺的高效技术。与传统辉光等离子体放电系统相比，电子回旋共振波系统的特点是产生高离子电流密 度、能量分布集中的等离子体，能够实现半导体薄膜的低压高速沉积，具有离化率高、放电反应室内无电极、适合大面积薄膜 沉积等优点。在实际实验及应用中常使用双电源驱动等离子体放电系统，利用电子回旋共振波原理进行等离子体放电，而使 用另一个独立的射频（或者直流）电源系统来驱动等离子体束流的引出，在等离子体放电过程中可实现独立、精确