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反应离子束刻蚀石英同质掩模制作小阶梯光栅 fabrication of echelette gratings by reactive ion beam etching of native substrate grating mask
第 53 卷第 6 期 真 空 VACUUM Vol. 53 ，No. 6
真 空 VACUUM 第 53 卷
2016 年 11 月 Nov. 2016
反应离子束刻蚀石英同质掩模制作小阶梯光栅
董圣为， 邱克强， 付绍军
（中国科学技术大学国家同步辐射实验室，安徽 合肥 230029 ）
摘 要： 离子束刻蚀作为真空技术的一种重要应用，已广泛运用于现代 微电子器件和微光学器件的制
作工艺中。本文结合反应离子束刻蚀与全息光刻技术，针对线密度较低的小阶梯光栅，倾斜刻蚀石英同质
掩模，制作了三种在紫外光和可见光波段透射闪耀的小阶梯光栅 。 第一种光栅线密度为 360lp/mm ，闪耀角
16.8° ，在 325nm 波长的透射衍射效率为 74% ；第二种和第三种光栅线密度均为 400lp/mm ，闪耀角为 34.7 °
和 43 ° ，其在 632.8nm 波长的透射衍射效率分别为 63% 和 57% 。 结果表明，使用 CHF3 作为刻蚀气体的反
应离子束刻蚀石英同质掩模 ， 所制作的小阶梯光栅在其工作波段透射闪耀的衍射效率为理论值的 75%
以上，为全息离子束制作低线密度大闪耀角的光栅提供参考。
关 键 词：小阶梯光栅；反应离子束刻蚀；闪耀角；衍射效率
中图分类号：TB741 ；TB79 文献标识码：A 文章编号： 1002-0322（2016 ）06-0054-05
doi ：10.13385/j.cnki.vacuum.2016.06.14
Fabrication of echelette gratings by reactive ion beam etching of native
substrate grating mask
DONG Sheng-wei, QIU Ke-qiang, FU Shao-jun
（National Synchrotron Radiation Laboratory, University of Science and Technology of China, Hefei 230009, China ）
Abstract ： As an important application of vacuum technology, ion beam etching is widely used in the fabrication of microelectronic
devices and micro optical devices. To explore an efficient method to fabricate echelette gratings with low line densities, three kinds of
echelette gratings with good transmission blazing effects at the wavelengths of visible light and UV light were fabricated by combining
holographic lithograph and reactive ion beam etching of native substrate grating mask. The fi
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