光学薄膜复习要点.docx

光学薄膜复习要点第四章光学薄膜的制造工艺1.光学薄膜器件的质量要素光学性能:膜层厚度d膜层折射率n折射率误差的三个主要来源：------膜层的填充密度(聚集密度)------膜层的微观组织物理结构------膜层的化学成分机械性能:硬度:膜层材料的本身硬度和膜层内部的填充密度牢固度：是指膜层对于基底的附着力、黏结程度 膜层与基底之间结合力的性质（范德华力、分子间作用力、经典吸引） 成膜粒子的迁移能环境稳定性：希望薄膜器件的光学性能和机械性能在经历恶劣环境较长时间后仍然不变。恶劣环境：盐水盐雾、高湿高温、高低温突变、全水浴半水浴、酸碱腐蚀提高方法:1.选用化学稳定性好的材料 2.制作结构致密无缝可钻的膜层后果：1.结构致密:酸碱盐水对膜层的腐蚀为单一面腐蚀，速度慢，耐久性强2. 结构疏松：酸碱盐水对膜层的腐蚀是深入内部的体腐蚀，速度快，耐久性差。填充密度:膜层的实际体积与膜层的几何体积之比。后果：高的填充密度对应着优良的机械性能和光学性能的环境稳定性。低：机械性能：膜层与基底之间吸附能小，膜层结构疏松牢固度差膜层表面粗糙，摩擦因数较大，抗摩擦损伤能力差非密封仪器内部，面腐蚀变为深入内部的体腐蚀光学性能：光线在粗糙表面散射损大 空隙对环境气体的吸收导致膜层的有效光学厚度随环境、温度的变化而变化。折射率不稳定。提高膜层的填充密---基片温度、沉积速率、真空度、蒸汽入射角、离子轰击影响膜层质量的工艺要素：1.真空镀制光学薄膜的基本过程清洗零件---清洁真空室/装零件---抽真空和零件加温---膜厚仪调整---离子轰击---膜料预熔---镀膜---镀后处理---检测。2.影响薄膜器件质量的工艺要素及其作用机理真空度:影响折射率，散射，机械强度，不溶性后果:真空度低，使膜料蒸汽分子与剩余气体分子碰撞的几率增加，蒸汽分子的动能大大减小，与基片的吸附能间隙，从而导致沉积的膜层疏松，机械强度差，聚集密度低，化学成分不纯，膜层折射率，硬度变差。随着真空度的提高，膜层结构得到改善，化学成分变纯但，应力增大。沉积速率机理：沉积速率低：晶核生长缓慢---结构疏松(聚集密度低) 沉积速率快:---应力积累 沉积速率合适---聚集密度大---光散射小，牢固度增加改进方法：提高沉积速率:1.提高蒸发源温度 增大蒸发源面积基片温度---对膜层粒子提供额外能量补充---主要影响膜层结构、凝集系数、膨胀系数、聚集密度---宏观反映在膜层折射率、散射、应力、附着力、硬度和不溶性都会因为温度的不同而存在较大差异。升温的优点：1.将附着在基片表面的剩余气体分子排除---增加基片与沉积分子之间的结合力。2.促进膜层物理吸附向化学吸附转化，增强分子间相互作用，使膜层紧密，附着力增加，提高了机械强度。3.减少了蒸汽分子再结晶的温度与基片温度之间的差异，提高了膜层密集度，增强了膜层硬度，消除了内应力。温度过高:是膜层结构变化或膜料发生分解。离子轰击镀前离子轰击:对基片表面进行再清洁和电活化---提高膜层在基片表面的凝集系数和附着力镀后离子轰击：提高膜层聚集密度，增进化学反应---使膜层折射率和机械强度增加基片材料基片材料的膨胀系数不同---薄膜热应力不同化学亲和力不同---影响膜层附着力和牢固度基片的粗糙度和缺陷---薄膜散射基片清洁不清洁的坏处：膜层对基底附着力差 散射吸收增大抗激光能力差 透光性变差膜层材料蒸发方式方法不同---提供给蒸发原子或分子的初始动能差异大---导致膜层结构有较大差异---聚集密度不一样---折射率、散射、附着力有差异蒸发入射角---蒸汽分子入射方向与基片趁机表面法线的夹角(30°)影响薄膜的生长特性和聚集密度---进而影响膜层折射率和散射性烘烤对膜层加温处理---有利于内应力释放和环境气体分子及膜层分子的热迁移---膜层结构重组---对折射率、应力、硬度有较大影响提高膜层机械强度的工艺途径1.真空度:随着真空度的提高，膜层聚集密度变大，牢固度增加，膜层结构得到改善，化学成分变纯，但同时应力变大。2.沉积速率：适当的提高沉积速率会得到颗粒细而致密的膜层---牢固度增加3.基片温度：提高基片温度有利于将吸附在基片表面的剩余气体分子排除---增加基片与沉积分子之间的结合力促使物理吸附想化学吸附转化---增强分子之间相互作用---使膜层结构致密4.离子轰击：镀前轰击---清洁表面、增强附着力镀后轰击---提高膜层聚集密度---机械强度和硬度都增加5.基片清洁：对基片进行清洁处理可以提高膜层与基片之间的附着力控制膜层折射率的主要工艺途径1.控制真空度：真空度越高---膜层填充密度越高---折射