定向沉积技术制备NdFeB系稀土永磁薄膜及其磁学性能的的分析研究.pdfVIP

汪苏 交学硕士学臻论文 摘 要 本文圭要磷建了溅袈态条终下，溅射王艺(溅射功攀、淀获速率等)释薄貘表 征(薄膜成分允其是Nd、B含量，薄膜厚度等)对NdFeB系永磁薄膜磁学髋能的影 响。通过对其藏直于薄膜方向及平行于薄膜方向的矫顽力和矩形度大小的对比，得 出最佳的溅射置芑和薄膜表征(溅射功率为30w，Nd％为23％，B％为8．5％)。文中采用 了壹滚、射颡磁拨技术裁冬了NdFeB系衷磁薄膜，利臻灏予力显徽镜、x象线掰射纹、 振动徉品磁强仪、电子扫摇显徽镰等瓣薄膜黪隆隧逶行溯试。 对比溅射恣下薄膜的表面形貌和磁学性能，综合分析预热并保温、遐火工艺对 薄膜性能的影响。分析不同预热溆度条件下所制备薄膜的XRD图，预热漱度100C ℃露，薄蔟羹袈藏取匀，C麓取怒誉麓显，这穰不鬟予薄膜垂壹磁善囱舅靛。在300 ℃是，薄膜择优取向明显，而且程(004)及(006)方向，尖峰占绝对优势，这恰 恰使得薄膜的翁磁化方向(C轴方向)垂直于薄膜平丽，这对薄膜的垂直磁各向异 性非常有利。强温度继续增加到400。C时薄膜择优取向煎现混乱化。至于遐火温度分 辑其霖子力爨徽镜圈毒躲400。C嚣热熬NdFeB／Ti薄璇熬载孛较多熬分配较凝天，置 高低不一，局部黯粒较细小、分布较均匀；6000C蜃热的NdFeB／Ti薄膜藤缎与溅射 态的薄膜晶粒橱比变化非常大，鼎粒生长非常明显，麒细小均匀；700。C后热的 NdFeB／Ti薄膜黼粒聚集生长，几乎鄱很粗大，且晶救大小、高低严重不～，出现大 量的低槽_秘尖峰，扶匿中可以看到蠢大块的亮色和深魏嚣域，且块状区域骥最呈楣 互阉隔努鑫，鼙薄貘表瑟程糙度校穴。 为获得良好磁性能的NdFeB系薄膜，采用了定向沉积技术，使薄膜袭断形成定 向的柱状晶，并分析了其中的机理。文中采用了直流、射频磁控技术制备了NdFeB 系薄膜，利用原予力显微镜、X射线衍射仪、振动样品磁强仪、电子扫描摄微镜等对 薄貘赘性戆遴移溅试。结果表甓；淼于定彝嚣积技本农溅射蓬翟孛对薄貘趱逶兰方 式加热，使溅射中的薄膜温度从3004C升到650C，所制备的NdFeB薄膜怒晶态的； 定向沉积技术制备出的NdFeB薄膜表面形成单一方向的柱状晶，该柱状黼缴长方向 垂直于薄膜表酾；定向的柱状晶NdFeB／Ti薄膜具有良好的磁各向异性。 汪 苏 大攀磺士学缀论文 建立溅射仓中的温度场，分析薄膜成核的临界条件及薄膜成核生长的三种不同 方式。分析薄膜生长的热力学和动力学条件。建立定向沉积的传热模型和薄膜内部 微观的传热模裂，分析定囱沉积的弦翔枧理。 定蠢沉积毅零裾篦予簧统懿熬鲶毽工艺，在改善薄羧豹表嚣形貌及雯长方式， 提高薄膜垂直记泶磁学性能方面明驻优化。 关键词：定向沉积，NdFeB薄膜，磁控溅射，表面形卷，磁性能 瑾 江苏 夭学_矮 圭学臻论文 ABSTRACT ofthe thinfilms 髓撑。affects sputteringtechnics(sputteringpoweretc，)and thecontent andthethin especially ofNd，B films’thickness appearances(itscomposition etc．、onNdFeB thinfilms愀researched magnetric series’permanent mainly．Thought the ofthefilms’coerciveforceand rationofthedirectionand comparation square parallel tothe direction