同时获美国和中国发明专利的一种高纯度二氧化氯生产新工艺.doc

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同时获美国和中国发明专利的一种高纯度二氧化氯生产新工艺

同时获美国和中国发明专利的一种高纯度二氧化氯生产新工艺陈天朗等 同时获美国和中国发明专利的一种高纯度二氧化氯生产新工艺 陈天朗1,吴珧萍1,卢云2。肖慎修k’,刘清华2 (1.四川大学化学学院,四川成都610064) (2.成都川失金钟科技有限公司,四川成都610065) 摘要:以氯酸盐为主要原料,尿素作还原剂,用矿酸为介质生产高纯度二氧化氯,以硫酸作介质时,二氧化氧纯 度和氯酸钠的转化率均达到95%以上.该工艺技术已经取得了中国和美国专利.我们对合成的二氧化氯进行了分 析和表征,并对以该技术为核心生产的CDJZ牌高纯二氧化氯发生器进行了性能测试和分析.结果表明生产二氧化 氯用尿素作还原剂比用甲醇和过氧化氢作还原剂有较大的优势.设备用于自来水处理时各项指标符合饮用水卫生 标准,设备运行成本为0.0053元/m3水,成本低,经济可行.该专利技术目前已经放大到t00009/hClO=的二氧化 氯发生器,转化率、纯度及其它技术指标均到达设计要求. 关键词:二氧化氯;尿素:高纯;还原法;二氧化氯发生器 二氧化氯是国际公认的一种高效安全的氧化剂,具有杀菌、除臭、漂白、保鲜等多种功能,是 一种应用范围广,市场潜力大的精细化工产品。已广泛用于食品、水处理、造纸、医院等行业。 八十年代以前主要是西方国家研究较多,我国从八十年代开始了二氧化氯的研究和生产,但大 多数用国外的R5、R8、Rll法工艺【¨,R5法以HC!为还原剂生产二氧化氯,但同时至少有三分之 一的氯气生成,产品严重不纯,且原料转化率很底,会造成水质的二次污染12,3],R8、R11分别以甲 醇或过氧化氢作还原剂,这些还原剂性质不稳定,易燃易爆,有毒,且价高不易购得和贮存,因此 严重影响了它们的应用,为了寻求更好的生产二氧化氯的工艺,我们经过8年对二氧化氯的潜心研 究,成功发明了一种制备二氧化氯的新方法,一种以无机酸为介质,用尿素还原氯酸钠生产二氧化 氯,同时将母液回收制成无机盐或无机肥料的新工艺【4,51。为节省篇幅,这里主要以硫酸作介质的工 艺为例介绍二氧化氯制备的新工艺,并对它的杀菌性能作了一些研究。 1实验 1???1试剂与仪器 实验试剂均为化学纯或分析纯,紫外光谱用日本岛津公司生产的UV-2100型紫外可见分光光度 计,红外光谱仪用美国PE公司生产的FT-IR 16PC型红外光谱仪。 1.2产品分析 1.2.1氯酸钠转化率的分析 亚铁与氯酸盐在酸性溶液中共热时,将使氯酸盐还原为氯化物,过剩的Fe2+用K2Cr207标准溶 液回滴,根据K2Cr207的用量来计算氯酸盐的含量,反应式为: 6 Fe2++C103+6H+=6 Fe3++CI.+3H,0 293 2006年全国水处理、’节水节能及环保精细化学品学术交流会论文集 中国·宁波 6 Fe2++Cr207+14H+----6 Fe3++2cr3++7H20 根据K2Cr207的消耗量计算出氯酸盐的转化率。 1.2.2二氧化氯的含量及纯度分析 二氧化氯的含量及纯度用五步碘量法分析,并用紫外光谱对其进行了表征。 1.3工艺原理及制备方法 1.3.1反应方程式 用氯酸盐为氧化剂,尿素作还原剂,以硫酸作介质为例的反应方程如下: 6MCIO:I+6H2S04+CO(NI-12)2=6C102+6MHS04+N2+C02+5H20 6MCl03+3H2S04+CO(NH2)2=6C102+3M2S04+N2+C02+5H20 (其中:M=K,Na) 1.3.2实验工艺流程 剽硫酸盐毒嫠氅璧釜j结晶 f 饵腰一·丑盐’ 图1实验工艺流程图 Fig.1 flow scheme ofexperimental 1.3.3制备方法 我们曾用NaCl03 3.2克,以H2S04作介质,尿素(用U表示)作还原剂的制备C102,在硫酸 的浓度6.4mol·L-1 NaCl03和尿素用量的摩尔比为3,反应温度为75C,NaCl03和H2S04的摩尔比 为0.48,反应时间为0.5小时,反应后的母液中主要有NaHS04生成,按NaHS04的含量以摩尔比l: l加入KCI加热浓缩(温度控制80~100C^)至刚有沉淀析出时,停止加热并迅速过滤,滤液中主要 为已转化成的KHS04。在已冷却的滤液(若仍有固体可再滤出)中加入约2倍体积的乙醇,K2sq 迅速析出,过滤即得K2S04产品(产品经红外光谱证实),转化率达94%,纯度达95%。经进一步 重结晶,产品纯度可达98%以上。过滤结晶后的母液可循环使用,也可按所希望的NPK(氮磷钾) 养份和肥料标准加入尿素(或其它的氮肥)、磷矿粉(根据母液的酸度加入,若磷含量达不到标准时, 可补加其它磷肥)或/和钾盐或三者同时加入即可制得二元或三元复合肥料。 为了更全面的研究氯酸钠的转化率与反应时间、还原剂用量、

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