高功率犡犲犆犾准分子激光系统前端平滑试验-光学精密工程.PDF

第 卷 第 期 光学 精密工程 １９ ２ 　 Ｖｏｌ．１９ Ｎｏ．２ 　 　 　　　　 　　　　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　 　　 　　　　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２０１１ ２ Ｆｅｂ．２０１１ 　 　 　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２０１１０２０３３２０８ 　 高功率犡犲犆犾准分子激光系统前端平滑实验 薛全喜，赵学庆，华恒祺，郑国鑫，张永生 （西北核技术研究所 激光与物质相互作用国家重点实验室，陕西 西安 ７１００２４） 摘要：为得到物面光强分布均匀、能量尽量大的部分相干 准分子激光前端种子光，采用放大自发辐射（ ）法和散 ＸｅＣｌ ＡＳＥ 射法开展了前端平滑实验研究。首先，基于一台窄脉冲ＸｅＣｌ准分子激光器，研究了种子光的物面光斑均匀性、能量和发 散角随光束口径及物面位置的变化规律。然后，分析了影响种子光参数的因素。最后，进行了验证实验。实验结果显 示： 法种子光物面光斑不均匀性最小为 ，能量为微焦量级，但发散角在水平和竖直方向有较大差别；散射法 ＡＳＥ ２．０１％ 种子光物面光斑不均匀性最小为 １．５４％，能量为百纳焦量级，发散角为 ５．５ｍｒａｄ，衍射极限倍数处于 １４ ３７可调。前 ～ 端泵浦腔尺寸和入射激光能量、散射板上光斑大小、收集透镜焦距分别是影响两种种子光参数的重要因素。经初级放大 器放大后，光束物面光斑不均匀性为 ２．０４％，能量达到 ８．０ｍＪ，满足高功率 ＸｅＣｌ准分子激光角多路系统建设需求。 关 键 词：准分子激光； 激光；光束平滑；均匀性；放大自发辐射；散射 ＸｅＣｌ 　 　 中图分类号： 文献标识码： ： ／ ＴＮ２４８．２１ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ＯＰＥ０３３２ 　　 　　 犛犲犲犱犫犲犪犿狊犿狅狅狋犺犻狀 犳狅狉犺犻犺 狅狑犲狉犡犲犆犾 犵 犵 狆 犲狓犮犻犿犲狉犾犪狊犲狉狊狊狋犲犿 狔 ， ， ， ＸＵＥＱｕａｎｘｉＺＨＡＯＸｕｅｉｎ ＨＵＡＨｅｎｉ ｑ ｇ ｇｑ ， ＺＨＥＮＧＧｕｏｘｉｎ ＺＨＡＮＧＹｏｎｓｈｅｎ