各国有害空气污染物管制规范解析.pdfVIP

192 低濃度酸鹼廢氣高效率洗滌處理技術 低濃度酸鹼廢氣高效率洗滌處理技術 簡弘民* 、吳信賢** 、SHANKAR G. AGGARWAL** 摘 要 半導體製程使用大量無機酸鹼等化學物質，部分的無機酸鹼物質隨著製程排 氣系統被送到洗滌塔處理後排放到大氣中 。因為半導體產業的廢氣有低濃度而高 風量的特性，雖然污染物排放濃度普遍較低，但是排放總量仍然相當可觀。 針對高科技產業工廠的洗滌塔進行研究時，發現酸性廢氣洗滌塔排氣中經常 含有 NH3 ，而對於去除NH3 、HF 與 HCl 氣體的效率普遍不佳，且有隨濃度降低 而下降的趨勢。而且效率皆遠低於「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」中 所要求的 95%去除效率。對部份大廠而言 ，甚至也可能超出排放總量的管制標準， 尤其是 HF 及 HCl 兩項廢氣成分。 本研究提出一項針對低濃度混合無機酸鹼廢氣之高效率洗滌技術，利用兩段 式洗滌克服酸鹼共排問題，同時利用界面活性劑改善對於低濃度範圍之洗滌效 率。為評估技術之可行性，因此本研究設計組裝一套處理風量可達 10 CMM 的模 廠設備來驗證此高效率洗滌技術處理低濃度混合無機酸鹼廢氣的效率。 測試結果顯示本技術可有效的處理低濃度混合無機酸鹼廢氣 ，使NH3 、HF 與 HCl 等三種廢氣成分之去除率均達到 90 % 。由於模廠操作參數與半導體廠洗滌塔 實際上所採用之操作參數相近，本研究結果可以應用於提昇現有處理低濃度廢氣 洗滌塔之效能。 【關鍵字】1.無機酸鹼廢氣 2.洗滌 3.噴霧塔 4.界面活性劑 *工業技術研究院 環境與安全衛生技術發展中心環衛組副組長 **工業技術研究院 環境與安全衛生技術發展中心環衛組研究員 工業污染防治 第89 期(Jan. 2004) 193 一、前 言 高科技產業是國內、甚至全世界最重要的產業之一，尤其是半導體及光電業， 隨著產業產能遽增，製造過程中使用酸鹼溶液、有機溶劑及特殊氣體所產生廢水、 廢氣及毒性物質也隨之增加。這些化學物質免不了逸散到作業環境空氣中而影響 作業人員健康及產品生產，也有可能由排放管道排放而影響周界空氣品質。因此， 行政院環保署在 89 年開始執行「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」來管制 半導體業者空氣污染物的排放。而如何有效處理空氣污染也一直是業者極為重視 的問題。 以半導體製程為例，在進行熱氧化成長(Thermal Oxide Growth) 、物理氣相沈 積(Physical Vapor Deposition) 、化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition) 、磊晶沈 積(Exitaxial deposition) 、離子植入(Ion Implantation) 、蝕刻(Etching) 、微影 (Photolithography) 、清洗(Clean)與擴散(Diffuse)等製程中，經常使用到的大量無機 酸、鹼等化學物質進行氧化或清洗，如氫氟酸(HF) 、鹽酸(HCl) 、硝酸(HNO3) 、磷 酸(H PO ) 、硫酸(H SO ) 與氨(NH )等，部分的無機酸鹼物質會逸散到空氣中而隨 3 4 2 4 3 著製程排氣系統排放至大氣。這些酸鹼性廢氣大多被以洗滌塔處理後再排放，且 大致上是在合於法規規定之下排放。由於半導體產業的生產規模、集排氣風量都 相當龐大，空氣污染物有低濃度而高風量的特性，雖然污染物排放濃度普遍較 低，但是排放總量仍然相當可觀。 隨著半導體線徑微細化，無塵室內的空氣品質要求也越來越嚴格，所以外氣 中存在的微量污染物即使是數個ppb ，也通常都必須先經過特殊的化學過濾處理才 能進入無塵室。由於大多數光電或半導體廠集中於科學園區，其排放之空氣污染 物對區域性空氣品質影響較大。從針對園區周界進行空氣採樣分析調查研究結果 發現[1] ，大部份的酸鹼氣體的濃度低於固定污染源空氣污